[發(fā)明專利]一種紫外熒光濾光片及其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201310450681.7
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN103529506A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬鈺慧;邱偉彬
• 申請（專利權(quán)）人: 華僑大學(xué)
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;A61B5/00
• 代理公司: 泉州市文華專利代理有限公司 35205
• 代理人: 廖仲禧

1.一種紫外熒光濾光片，其特征在于：所述紫外熒光濾光片可用于皮膚損傷檢測，所述紫外熒光濾光片包括一基片、一（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系，所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系鍍制于基片上，所述紫外熒光濾光片于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm兩個波段均截止。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外熒光濾光片，其特征在于：所述基片為K9玻璃，所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系是由復(fù)數(shù)高折射率膜層和低折射率膜層構(gòu)成，所述高折射率膜層所用材料為Ta₂O₅，所述低折射率膜層所用材料為SiO₂。

3.一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述紫外熒光濾光片可用于皮膚損傷檢測，所述方法包括如下步驟：

步驟10、結(jié)合皮膚的光學(xué)性質(zhì)得到皮膚熒光峰值對應(yīng)的紫外光譜，并以此作為紫外熒光濾光片的指標(biāo)；

步驟20、根據(jù)紫外熒光濾光片的指標(biāo)選擇基片材料、高折射率膜層以及低折射率膜層材料；

步驟30、根據(jù)紫外熒光濾光片的指標(biāo)設(shè)計膜系結(jié)構(gòu)和紫外熒光濾光片結(jié)構(gòu)，并進(jìn)行相應(yīng)的仿真和優(yōu)化，得到符合紫外熒光濾光片的指標(biāo)的膜系；步驟40、對所得的膜系進(jìn)行容差分析；

步驟50、根據(jù)容差分析結(jié)果，選擇相應(yīng)的薄膜制備方法進(jìn)行制備紫外熒光濾光片并進(jìn)行相應(yīng)的檢測。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述紫外熒光濾光片的指標(biāo)于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm兩個波段均截止。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟20中，基片的材料為K9玻璃，所述高折射率膜層所用材料為Ta₂O₅，所述低折射率膜層所用材料為SiO₂。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟30設(shè)計的膜系結(jié)構(gòu)為（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系，且所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系為于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm兩個波段均截止。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟40中的容差分析，是在TFC軟件中進(jìn)行的。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟50中相應(yīng)的薄膜制備方法為射頻磁控濺射、電子束蒸發(fā)、離子束輔助鍍膜、原子層外延或MOCVD。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種紫外熒光濾光片的制備方法，其特征在于：所述步驟50中相應(yīng)的檢測方式為紫外分光光度計進(jìn)行的檢測。