[發明專利]濾光片缺陷特征參數選擇的熵方法有效
| 申請號: | 201310449476.9 | 申請日: | 2013-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN103500336A | 公開(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發明(設計)人: | 吳俊芳;劉桂雄;付夢瑤 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | G06K9/46 | 分類號: | G06K9/46 |
| 代理公司: | 北京天奇智新知識產權代理有限公司 11340 | 代理人: | 李振文 |
| 地址: | 510640 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濾光 缺陷 特征 參數 選擇 方法 | ||
1.濾光片缺陷特征參數選擇的熵方法,其特征在于,所述方法包括:
分割缺陷濾光片圖像中包含缺陷的外接矩形,形成缺陷ROI;
設置候選特征集F的元素,設置已選特征集S為空集;
計算所述缺陷ROI的特征值,通過特征值構造樣本集合;
計算樣本集合中所有樣本的候選特征fifk與類C的歸一化互信息SU(fifk,C);
根據歸一化互信息SU(fifk,C)最大值選出已選特征集S的第一個元素s1;去除候選特征集F中已選入S的特征及歸一化互信息SU(fifk,C)小于閾值的候選特征;
計算候選特征集F中每個候選特征fifk的評價函數J(fifk,C,S)的值;根據評價函數J(fifk,C,S)最大值選出已選特征集S的下一個元素;去除候選特征集F中已選入S的特征及評價函數J(fifk,C,S)小于閾值的候選特征;重復該步驟,直至候選特征集F為空集;
已選特征集S的元素即為濾光片缺陷特征參數。
2.根據權利要求1所述的濾光片缺陷特征參數選擇的熵方法,其特征在于,所述候選特征集F中的元素稱為候選特征fifk,當i=k時fifk表示單一特征fi,當i≠k時fifk表示fi與fk的組合特征。
3.根據權利要求1所述的濾光片缺陷特征參數選擇的熵方法,其特征在于,所述通過特征值構造樣本是對每個缺陷ROI計算指定的D個特征,由D個特征值及特征值的兩兩組合構成候選特征的一個樣本。
4.根據權利要求1所述的濾光片缺陷特征參數選擇的熵方法,其特征在于,所述歸一化互信息SU(fifk,C)與評價函數J(fifk,C,S)均轉化為熵值來計算,計算時先將候選特征的連續取值離散化,再按熵的公式計算。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華南理工大學,未經華南理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310449476.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





