[發(fā)明專利]適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)及滅弧室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310438602.0 | 申請日： | 2013-09-23 |
| 公開（公告）號： | CN103515139A | 公開（公告）日： | 2014-01-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉志遠(yuǎn);楊和;耿英三;王建華 | 申請（專利權(quán)）人： | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號： | H01H33/664 | 分類號： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 西安智大知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61215 | 代理人： | 何會(huì)俠 |
| 地址： | 710049*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 適用于 電流 真空 滅弧室 復(fù)合 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)，由動(dòng)導(dǎo)電桿（1）和靜導(dǎo)電桿（2）組成的一對動(dòng)靜導(dǎo)電桿和分別固定于動(dòng)導(dǎo)電桿（1）和靜導(dǎo)電桿（2）近端頂端的動(dòng)端觸頭和靜端觸頭組成；其特征在于：所述動(dòng)端觸頭由動(dòng)端觸頭材料B（3）以及固定于動(dòng)端觸頭材料B（3）上方的和其材料不同的動(dòng)端觸頭材料A（4）組成，所述動(dòng)端觸頭材料A（4）覆蓋動(dòng)端觸頭材料B（3）的部分面積；所述靜端觸頭由靜端觸頭材料B（5）以及固定于靜端觸頭材料B（5）上方的和其材料不同的靜端觸頭材料A（6）組成，所述靜端觸頭材料A（6）覆蓋靜端觸頭材料B（5）的部分面積；在合閘過程中，動(dòng)端觸頭材料A（4）和靜端觸頭材料A（6）間的間距小于動(dòng)端觸頭材料B（3）和靜端觸頭材料B（5）間的間距，預(yù)擊穿發(fā)生在動(dòng)端觸頭材料A（4）和靜端觸頭材料A（6）之間；在分閘過程中，開斷電流電弧建立于動(dòng)端觸頭材料B（3）、動(dòng)端觸頭材料A（4）、靜端觸頭材料B（5）和靜端觸頭材料A（6）表面，由動(dòng)端觸頭材料B（3）和靜端觸頭材料B（5）來開斷電流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述動(dòng)端觸頭材料A（4）和靜端觸頭材料A（6）采用含鎢觸頭材料；所述動(dòng)端觸頭材料B（3）和靜端觸頭材料B（5）采用含鉻觸頭材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述含鎢觸頭材料為WCu。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述含鉻觸頭材料為CuCr。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于容性電流開斷的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述動(dòng)端觸頭材料A（4）和靜端觸頭材料A（6）分別固定于動(dòng)端觸頭材料B（3）和靜端觸頭材料B（5）的中央位置或兩端邊緣位置。
6.一種真空滅弧室，其特征在于：由權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的真空滅弧室復(fù)合觸頭結(jié)構(gòu)與外殼、屏蔽罩和波紋管導(dǎo)構(gòu)成。
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