[發(fā)明專利]用于產(chǎn)生斷層圖像的設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310435950.2
• 申請日: 2013-09-23
• 公開（公告）號: CN103829924B
• 公開（公告）日: 2017-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任宰均;樸龍根;張?jiān)诘?/a>;俞賢昇;李性德;張祐榮;崔泫
• 申請（專利權(quán)）人: 三星電子株式會社;韓國科學(xué)技術(shù)院
• 主分類號: A61B3/14
• 分類號: A61B3/14;A61B3/12;A61B5/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286
• 代理人: 韓明星,魯恭誠

1.一種用于產(chǎn)生斷層圖像的設(shè)備，該設(shè)備包括：

檢測單元，將其上的每一束入射光調(diào)制成基于至少兩個基本調(diào)制參數(shù)的至少兩束基本調(diào)制入射光和基于目標(biāo)調(diào)制參數(shù)的目標(biāo)調(diào)制入射光，并檢測出對象的目標(biāo)干涉信號和至少兩個基本干涉信號；

成像單元，將所述至少兩個基本干涉信號改變?yōu)橹辽賰蓚€斷層圖像信號，并通過分析所述至少兩個斷層圖像信號來輸出目標(biāo)調(diào)制參數(shù)，所述成像單元將目標(biāo)干涉信號處理為對象的目標(biāo)圖像，并輸出該目標(biāo)圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述檢測單元包括：

調(diào)制器，將每束入射光調(diào)制成所述至少兩束基本調(diào)制入射光和目標(biāo)調(diào)制入射光；

干涉儀，從根據(jù)目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光的響應(yīng)信號中分別提取目標(biāo)干涉信號和所述至少兩個基本干涉信號。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括空間光調(diào)制器，所述空間光調(diào)制器將入射光的波前調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括數(shù)字微鏡器件，所述數(shù)字微鏡器件包括具有多個微反射鏡的陣列，其中，通過設(shè)置每個微反射鏡的打開或關(guān)閉來將入射光調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括數(shù)字微鏡器件，所述數(shù)字微鏡器件包括具有多個微反射鏡的陣列，其中，通過設(shè)置每個微反射鏡單元的打開或關(guān)閉來將入射光調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光，每個微反射鏡單元能夠由不同數(shù)量的微反射鏡形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括數(shù)字微鏡器件，所述數(shù)字微鏡器件包括具有多個微反射鏡的陣列，其中，通過基于分辨率信息而設(shè)置每個微反射鏡單元來將入射光調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光，每個微反射鏡單元能夠提供不同的分辨率。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括頻率光調(diào)制器，所述頻率光調(diào)制器將入射光的頻率調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述調(diào)制器包括空間光調(diào)制器和頻率光調(diào)制器，所述空間光調(diào)制器和頻率光調(diào)制器分別調(diào)制入射光的波前和頻率，以將入射光調(diào)制成目標(biāo)調(diào)制入射光和所述至少兩束基本調(diào)制入射光。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述目標(biāo)調(diào)制參數(shù)是調(diào)制器的設(shè)定參數(shù)，所述目標(biāo)調(diào)制入射光形成從對象反射或散射的作為平面波的信號。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述成像單元包括：

圖像處理器，分別將所述目標(biāo)干涉信號和所述至少兩個基本干涉信號處理為與對象的一部分對應(yīng)的圖像信號；

目標(biāo)調(diào)制參數(shù)設(shè)置器，分析與對象的對應(yīng)于所述至少兩個基本干涉信號的所述部分相對應(yīng)的每個圖像信號，并將所述至少兩個基本調(diào)制參數(shù)結(jié)合來設(shè)置目標(biāo)調(diào)制參數(shù)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述圖像處理器將對象的與目標(biāo)干涉信號對應(yīng)的所述部分的圖像信號輸出為目標(biāo)圖像。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述檢測單元基于至少兩個目標(biāo)調(diào)制參數(shù)來將入射光調(diào)制成至少兩束目標(biāo)調(diào)制入射光，所述成像單元將所述至少兩個目標(biāo)調(diào)制參數(shù)進(jìn)行結(jié)合，以產(chǎn)生目標(biāo)圖像。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述斷層圖像產(chǎn)生設(shè)備包括在光學(xué)相干斷層掃描設(shè)備中。

14.一種產(chǎn)生斷層圖像的方法，該方法包括：

設(shè)置目標(biāo)調(diào)制參數(shù)；

根據(jù)目標(biāo)調(diào)制參數(shù)調(diào)制入射光，以在優(yōu)化的傳輸深度掃描對象；

檢測掃描對象的結(jié)果并作為干涉信號；以及

對干涉信號進(jìn)行處理，以產(chǎn)生對象的斷層圖像，

其中，目標(biāo)調(diào)制參數(shù)的設(shè)置包括：對入射光執(zhí)行至少兩個基本調(diào)制使其成為至少兩束基本調(diào)制入射光；掃描對象；檢測至少兩個基本干涉信號；將所述至少兩個基本干涉信號改變?yōu)橹辽賰蓚€斷層圖像信號，并通過分析所述至少兩個斷層圖像信號來輸出目標(biāo)調(diào)制參數(shù)。