[發明專利]光學頭及使用其的光學系統有效
| 申請號: | 201310432079.0 | 申請日: | 2013-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN103728015A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 洪健翔 | 申請(專利權)人: | 臺灣超微光學股份有限公司 |
| 主分類號: | G01J1/04 | 分類號: | G01J1/04;G01J3/02 |
| 代理公司: | 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315 | 代理人: | 許志勇 |
| 地址: | 中國臺灣新*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 使用 光學系統 | ||
1.一種光學頭,用以接收一入射光,其特征在于,該光學頭包含:
一穿透式余弦校正元件,配置于該入射光的一光徑上,該入射光在射入該穿透式余弦校正元件后被轉換為朗伯光形的一散射光,且不同角度射入該穿透式余弦校正元件的該入射光對該穿透式余弦校正元件具有實質上相同的穿透率;以及
一反射元件,具有至少一光學輸出區與一反光區,該反射元件朝向該穿透式余弦校正元件配置,而該穿透式余弦校正元件對該反射元件遮蔽該入射光,其中部分來自該穿透式余弦校正元件的該散射光射入該光學輸出區,未射入該光學輸出區的該散射光則射入該反光區,而射入該反光區的該散射光被反射至該穿透式余弦校正元件及/或反光區的其他部分。
2.如權利要求1的光學頭,其特征在于,該反射元件具有多個光學輸出區。
3.如權利要求2的光學頭,其特征在于,該反射元件的該些光學輸出區相對于反射元件的中心軸對稱。
4.如權利要求2的光學頭,其特征在于,該些光學輸出區的面積實質上相同。
5.如權利要求1的光學頭,其特征在于,該反射元件為凹面鏡、具回反射結構的平面鏡、具回反射結構的凹面鏡、具擴散結構的平面或具擴散結構的凹面其中之一。
6.如權利要求1的光學頭,其特征在于,更包含一或多個反射器,連接該穿透式余弦校正元件,朝向該反射元件,上述反射器與該穿透式余弦校正元件實質上共平面。
7.一種光學頭,用以接收一入射光,其特征在于,該光學頭包含:
一反射式余弦校正元件,具有一光學輸出區以及一反光散射區,該反射式余弦校正元件配置于該入射光的一光徑上;
一反射元件,朝向該反射式余弦校正元件設置,其中該入射光射入該反光散射區,并被該反射式余弦校正元件轉換為朗伯光形的一散射光,而使不同角度射入該反射式余弦校正元件的該入射光對該反射式余弦校正元件具有實質上相同的反射率,該散射光入射該反射元件及/或該反光散射區的其他部分;以及
一收光元件,配置于該反射式余弦校正元件的該光學輸出區處以接收來自該反射元件的該散射光,且該收光元件的收光范圍在可將來自該反射式余弦校正元件的該散射光反射至該光學輸出區的該部分的該反射元件內。
8.如權利要求7的光學頭,其特征在于,該反射式余弦校正元件為平面或凹面。
9.如權利要求7的光學頭,其特征在于,該反射元件為凸面鏡、平面鏡、凹面鏡、具擴散結構的平面或具擴散結構的凹面其中之一。
10.如權利要求7的光學頭,其特征在于,更包含一管狀反射壁,環繞該反射式余弦校正元件與該反射元件,且形成一光通道使該入射光通過該光通道射入該反射式余弦校正元件。
11.一種光學系統,用于量測一入射光,其特征在于,該光學系統包含:
一光學頭,包含:
一穿透式余弦校正元件,配置于該入射光的一光徑上,并將該入射光轉換為一散射光;以及
一反射元件,具有至少一光學輸出區以及一反光區,該反射元件朝向該穿透式余弦校正元件設置,其中該穿透式余弦校正元件對該入射光遮蔽該反射元件;以及
至少一測光裝置,將來自該光學輸出區的該散射光轉換為電信號。
12.如權利要求11的光學系統,其特征在于,該反射元件具有多個光學輸出區。
13.如權利要求12的光學系統,其特征在于,該反射元件的該些光學輸出區相對于反射元件的中心軸對稱。
14.如權利要求12的光學系統,其特征在于,該反射元件的各該些光學輸出區連接至不同的測光裝置。
15.如權利要求14的光學系統,其特征在于,該反射元件的該些光學輸出區與該些測光裝置間通過波導連接。
16.如權利要求11的光學系統,其特征在于,該測光裝置為一感光元件。
17.如權利要求11的光學系統,其特征在于,該測光裝置包含:
一分光元件,來自該光學頭的該散射光射入該分光元件,并被該分光元件轉換為一分色光;以及
一感光元件,將來自該分光元件的該分色光轉換為一電信號。
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