[發明專利]用于薄膜沉積的掩膜框架組件

在審

• 申請號: 201310428576.3
• 申請日: 2013-09-18
• 公開（公告）號: CN103855325A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 吳允燦;李忠浩
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L31/18
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 李文穎;周艷玲

1.一種用于薄膜沉積的掩膜框架組件，所述掩膜框架組件包括：

具有開口的掩膜框架；和

掩膜，該掩膜被構造為被聯接到所述掩膜框架，并包括：

面對沉積基板的第一表面：

與所述第一表面相反的第二表面；和

具有變化的厚度的防變形部。

2.根據權利要求1所述的掩膜框架組件，其中所述掩膜進一步包括：

沉積區域，所述沉積區域中的每個均包括沿著所述掩膜的第一方向彼此隔開的沉積圖案；

所述沉積區域中相鄰的沉積區域之間的肋；和

沿著所述掩膜的與所述第一方向相交的第二方向的在所述沉積區域的邊緣處的邊界，

其中所述防變形部在所述邊界處。

3.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，其中所述掩膜被構造為沿所述第一方向被拉伸，并且

其中所述掩膜的兩個端部分被構造為被焊接到所述掩膜框架。

4.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，其中所述掩膜包括多個拼合掩膜，

其中所述第一方向為所述多個拼合掩膜的長度方向，并且

其中所述第二方向為所述多個拼合掩膜的寬度方向。

5.根據權利要求4所述的掩膜框架組件，其中所述掩膜的寬度小于所述掩膜的長度，并且

其中所述掩膜被構造為沿所述掩膜的長度方向被拉伸。

6.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，其中所述防變形部在所述邊界處沿著所述掩膜的所述第一方向延伸，并且

其中所述防變形部包括具有第一厚度的多個第一部分和具有比所述第一厚度小的第二厚度的多個第二部分。

7.根據權利要求6所述的掩膜框架組件，其中所述防變形部包括多個防變形區域，并且

其中所述多個防變形區域包括沿著所述掩膜的所述第一方向交替布置的所述多個第一部分和所述多個第二部分。

8.根據權利要求7所述的掩膜框架組件，其中所述邊界中的每個均包括沿著所述掩膜的所述第二方向劃分的多個線條，并且

其中所述多個防變形區域中對應的防變形區域沿著所述第一方向位于所述多個線條的每個中。

9.根據權利要求7所述的掩膜框架組件，其中所述多個防變形區域沿所述第二方向的寬度小于所述沉積區域沿所述第一方向的寬度，并小于所述肋沿所述第一方向的寬度。

10.根據權利要求7所述的掩膜框架組件，其中所述多個防變形區域中的每個沿所述第一方向的尺寸對應于所述多個第一部分和所述多個第二部分之一。

11.根據權利要求6所述的掩膜框架組件，其中所述多個第一部分沿所述掩膜的厚度方向不被蝕刻，并且

其中所述多個第二部分沿所述掩膜的所述厚度方向被半蝕刻。

12.根據權利要求11所述的掩膜框架組件，其中所述多個第二部分包括所述掩膜的從所述第二表面被半蝕刻的區域，并具有比所述掩膜的其它部分的厚度小的厚度。

13.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，其中所述肋中的每個均在相鄰的沉積區域之間，并包括被半蝕刻的第一區域以及未被半蝕刻的第二區域。

14.根據權利要求13所述的掩膜框架組件，其中所述肋的所述第二區域具有至少一個虛擬圖案。

15.根據權利要求14所述的掩膜框架組件，其中所述至少一個虛擬圖案包括點形縫隙圖案或長條形縫隙圖案。

16.根據權利要求13所述的掩膜框架組件，其中所述肋沿所述第一方向的寬度小于所述沉積區域沿所述第一方向的寬度。

17.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，其中所述掩膜在所述沉積區域的沿著所述第一方向的外側處進一步包括：

半區域；

固定區域；和

具有虛擬沉積圖案的虛擬沉積區域。

18.根據權利要求17所述的掩膜框架組件，其中所述固定區域沿所述掩膜的厚度方向不被蝕刻，并被構造為焊接到所述掩膜框架。

19.根據權利要求2所述的掩膜框架組件，進一步包括從所述沉積區域的外側向所述掩膜的端部按順序布置的第一半區域、第一固定區域、第二半區域、虛擬沉積區域和第二固定區域。