[發明專利]采用放大自發輻射光源測試光學元件損傷閾值裝置和方法

無效

• 申請號: 201310422557.X
• 申請日: 2013-09-16
• 公開（公告）號: CN104062299A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發明（設計）人: 周瓊;莊亦飛;馮滔;朱健強
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種采用放大自發輻射光源測試光學元件損傷閾值裝置，特征在于該裝置包括ASE光源（1）、能量衰減器（2）、λ/2波片（3）、第一反射鏡（4）、第二反射鏡（5）、第三反射鏡（6）、第四反射鏡（7）、第一平凸透鏡（8）、平凹透鏡（9）、楔形取樣鏡（10）、供待測光學元件設置的樣品平臺（11）、小孔光闌（12）、第二平凸透鏡（13）、能量計（14）、CCD探測器（15）和計算機（16），沿所述的ASE光源（1）的激光輸出方向依次是所述的能量衰減器（2）、λ/2波片（3）、第一高反鏡（4）、第四高反鏡（7）、第一平凸透鏡（8）、平凹透鏡（9）、楔形取樣鏡（10）和待測光學元件，在所述的楔形取樣鏡（10）的反射光方向分別設有第二高反鏡（5）和第三高反鏡（6），在第二高反鏡（5）的反射光方向是所述的CCD探測器（15），在第三高反鏡（6）的反射光方向依次是所述的小孔光闌（12）、第二平凸透鏡（13）和能量計（14），所述的計算機（16）的輸出端與所述的樣品平臺（11）的控制端相連，所述的CCD探測器（15）的輸出端與所述的計算機（16）的第一輸入端相連，所述的能量計（14）的輸出端與所述的計算機（16）的第二輸入端相連，所述的計算機（16）具有采集光場分布和光束能量的軟件以及控制樣品平臺（11）的驅動軟件。

2.利用權利要求1所述的裝置對光學元件損傷的測試方法，其特征在于該方法包括下列步驟：

①將待測光學元件置于待測樣品平臺（11）上，在計算機的軟件界面設置待測樣品的移動步長、每行測試點數m及行數n；

②所述的ASE光源（1）輻照測試點時采用1-on-1的方法：所述的計算機（16）驅動所述的ASE光源（1）對對測試點輻照一個光脈沖，所述的CCD探測器（15）記錄光場分布和所述的能量計（14）記錄ASE光源能量大小送入所述的計算機（14）存儲；所述的計算機驅動待測樣品平臺（11）控制待測光學元件沿X的方向移動一個步長，保持輻照的能量密度相等地進行輻照測量，直至第i＝1行中m個測試點輻照完；

③輻照完一行測試點后，減小ASE光源的能量密度，計算機控制樣品沿著Y方向移動一個步長，重復步驟②，繼續輻照另一行的m個測試點；

④重復步驟③，直到樣品表面某行m個點均未發現有損傷；

⑤計算機統計每行測試點產生損傷的點數，計算每行測試點損傷幾率，即損傷幾率=損傷點數/受輻照點數m；

⑥計算機以ASE能量密度為橫軸，損傷幾率為縱軸，生成損傷幾率與激光能量密度對應的分布圖，通過擬合出零損傷幾率，計算并顯示被測樣品的ASE損傷閾值。