[發(fā)明專利]氣體顆粒物測量裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310418060.0 | 申請日： | 2013-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN104422643A | 公開（公告）日： | 2015-03-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張卿 | 申請（專利權(quán)）人： | 張卿 |
| 主分類號： | G01N15/06 | 分類號： | G01N15/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100091 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體 顆粒 測量 裝置 | ||
1.一種氣體顆粒物濃度測量裝置，由帶有通氣孔的濾膜基座、反光濾膜、吸光濾膜、抽氣泵及流量測量裝置、光源、光電探測及數(shù)據(jù)處理裝置構(gòu)成，其特征為：反光濾膜和吸光濾膜蓋緊在濾膜基座的通氣孔上，濾膜基座的通氣孔和抽氣泵及流量測量裝置相連，光源發(fā)出的光能夠照射到反光濾膜和吸光濾膜上，光電探測及數(shù)據(jù)處理裝置能夠探測反光濾膜和吸光濾膜反射的光強(qiáng)度值并進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述反光濾膜，其特征為：對特定波長反射率大于90％的濾膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述吸光濾膜，其特征為：對特定波長反射率小于10％的濾膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述反光濾膜和吸光濾膜，其特征為：反光濾膜和吸光濾膜為各自獨立的濾膜，兩種濾膜對氣流的阻力比值為定值。?
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述反光濾膜和吸光濾膜，其特征為：反光濾膜和吸光濾膜為同一濾膜的不同部分，且兩部分對氣流的阻力比為定值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述濾膜基座，其特征為：反光濾膜和吸光濾膜覆蓋的通氣孔為兩個或兩個以上的孔且氣路相通。?
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述濾膜基座，其特征為：反光濾膜和吸光濾膜覆蓋的通氣孔為一個孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽氣泵及流量測量裝置，其特征為：能夠?qū)V膜基座的通氣孔進(jìn)行抽氣并且能夠測量出流經(jīng)反光濾膜和吸光濾膜的氣體體積。?
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