[發明專利]利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰及其制備方法有效
| 申請號: | 201310414216.8 | 申請日: | 2013-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN103466680A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發明(設計)人: | 李梅;胡艷宏;柳召剛;王學峰;王覓堂;黃金果 | 申請(專利權)人: | 內蒙古科技大學 |
| 主分類號: | C01F17/00 | 分類號: | C01F17/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京中譽威圣知識產權代理有限公司 11279 | 代理人: | 蔣常雪 |
| 地址: | 014010 內蒙*** | 國省代碼: | 內蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 陰離子 電解質 模板 調控 合成 氧化 及其 制備 方法 | ||
1.一種利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰,其特征在于:所述氧化鈰為籠狀,由梭形單體堆積而成,D50為6~8μm;400℃焙燒后比表面積達到80~100g/cm2,1000℃焙燒后比表面積達到14~20m2/g,梭形單體平均粒徑為1~3μm。
2.一種利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
(1)配制濃度為1.55mol/L的鈰鹽溶液,調pH值為4,取該溶液1.5~16.5ml,加水至133ml;稱取固體粉末陰離子聚電解質PSS、PAA、SDS、或木鈉,加水100ml溶解;將陰離子聚電解質溶液加入鈰鹽溶液,攪拌均勻,使得[Ce3+]為0.01~0.11mol/L,陰離子聚電解質濃度為0.05~1.5?g/L;
(2)稱取沉淀劑,使沉淀劑與氧化鈰的質量比比值為1~2,加水溶解攪拌均勻,使得沉淀劑的濃度為0.01~0.10mol/L;
(3)將步驟(2)制備的沉淀劑溶液加入到步驟(1)制備的溶液中,加料時間為0~5h,加料完成后繼續攪拌0.5h,陳化0~72h,抽濾,烘干,得到梭形堆積籠狀碳酸鈰顆粒;
(4)梭形堆積籠狀碳酸鈰顆粒經過400~1000℃焙燒,得到梭形堆積籠狀氧化鈰。
3.根據權利要求2所述的利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于:所用鈰鹽為硝酸鈰、氯化鈰、醋酸鈰或硫酸鈰鹽。
4.根據權利要求2所述的利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于:所述的沉淀劑為含碳酸根的可溶性碳酸鹽,所述含碳酸根的可溶性碳酸鹽為碳酸銨、碳酸氫銨或碳酸鈉。
5.根據權利要求2所述的利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于所述的陰離子聚電解質為帶有-SO3-、-COOH官能團的有機物,所述帶有-SO3-、-COOH官能團的有機物為聚苯乙烯磺酸鈉PSS、聚丙烯酸PAA、木質素磺酸鈉木鈉或十二烷基磺酸鈉SDS。
6.根據權利要求2所述的利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于:步驟(3)得到梭形堆積籠狀碳酸鈰顆粒,用去離子水洗3次,醇洗2次,60℃烘干4h。
7.根據權利要求2所述的利用陰離子聚電解質模板調控合成的氧化鈰的制備方法,其特征在于:梭形堆積籠狀碳酸鈰顆粒在400-1000℃焙燒,升溫速度100℃/h,保溫時間2h,隨爐冷卻至室溫,得到梭形堆積籠狀氧化鈰顆粒。
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