[發明專利]基板清潔裝置

在審

• 申請號: 201310412186.7
• 申請日: 2013-09-11
• 公開（公告）號: CN103658072A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 李承俊;柳廷和;韓蘇拉;申東明
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B08B1/02
• 分類號: B08B1/02;B08B3/08;B08B7/04;H01L21/67
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 李文穎;周艷玲

技術領域

本公開涉及基板清潔裝置。

背景技術

在顯示設備中，平坦且薄的平板顯示器包括液晶顯示器（LCD）、等離子顯示設備、有機發光二極管（OLED）顯示器等。

平板顯示器包括用于顯示圖像的顯示面板，并且為了制造顯示面板，執行各種過程，例如蝕刻過程、清潔過程等。

清潔過程不是現實中制造設備的單一過程，但它影響過程產出和產品性能。

在該背景技術部分中公開的上述信息僅為了增強對本發明背景的理解，因此其可能包含不形成對于本國本領域普通技術人員來說已知的現有技術的信息。

發明內容

本發明努力提供一種基板清潔裝置，其具有在清潔基板的下表面時防止液體化學物噴濺到基板的上部分的優點。

本發明的實施例提供一種基板清潔裝置，包括：用于傳送基板的多個傳送滾筒；將液體化學物供應到所述基板的第一表面的液體化學物供給器；其中所述液體化學物供給器包括：殼體；和清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉地安裝在所述殼體內并且具有被配置為與所述基板的上部分接觸。所述基板清潔裝置可進一步包括：純凈水供給器，用于將純凈水供應到所述基板的所述第一表面，被配置為去除被供應到所述第一表面的所述液體化學物，其中所述純凈水供給器包括：殼體；和清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉地安裝在所述純凈水供給器的所述殼體內并且具有被配置為與所述基板的上部分接觸。

所述基板清潔裝置可進一步包括：空氣供應單元，安裝在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液體化學物噴濺到所述基板的所述第二表面。在一實施方式中，所述基板清潔裝置可進一步包括：空氣供應單元，安裝在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液體化學物和所述純凈水噴濺到所述基板的所述上表面。

所述液體化學物供給器和所述純凈水供給器中的每一個可進一步包括：將液體供應到所述殼體的內部的泵；和存儲被供應到所述殼體的內部的液體的液體存儲罐；其中所述清潔滾筒的一部分浸入被供應到所述殼體的內部的所述液體中。

所述清潔滾筒可包括圓柱形主體和位于所述圓柱形主體的外圓周表面的多個刷子。

所述基板清潔裝置可進一步包括：噴濺防止構件，布置為與在比所述清潔滾筒的旋轉中心軸線高的位置處所述清潔滾筒相鄰，以便當用大量液體浸漬的所述清潔滾筒旋轉時防止液體沿所述殼體的向上方向噴濺。

所述噴濺防止構件可被定位為低于所述基板并且高于所述清潔滾筒的所述旋轉中心軸線。

所述噴濺防止構件可為被布置為與所述旋轉中心軸線平行的管。

所述噴濺防止構件可被形成為在所述清潔滾筒的上部分的兩側的一對噴濺防止構件。

所述殼體的長度方向可為所述清潔滾筒的軸線延伸的方向，并且當所述清潔滾筒的所述軸線延伸的方向垂直于所述基板的傳送方向時，平行于所述基板的所述傳送方向的所述殼體的寬度可長于所述清潔滾筒的直徑。

所述基板清潔裝置可進一步包括位于所述殼體的上表面上的蓋，所述蓋被配置為防止所述液體隨著所述清潔滾筒的旋轉而被噴濺。

所述噴濺防止蓋可被形成為在所述清潔滾筒的兩側的一對噴濺防止蓋，并且所述清潔滾筒的上端部分可伸出到所述一對噴濺防止蓋之間的開口。

所述空氣供應單元可包括一對氣刀，并且所述一對氣刀位于所述液體化學物供給器和所述純凈水供給器中的每一個的上方。

當沿所述基板的所述傳送方向觀看時，所述一對氣刀可位于所述清潔滾筒的前側和后側。

在所述一對氣刀中，位于所述前側的氣刀可向所述后側傾斜，并且位于所述后側的氣刀可向所述前側傾斜。

當沿所述基板的所述傳送方向觀看時，所述純凈水供給器可位于所述液體化學物供給器的后側。

所述純凈水供給器的數量為多個。

所述基板清潔裝置可進一步包括與所述液體化學物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體分隔開且當沿所述基板的所述傳送方向觀看時在所述液體化學物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體前方的基板移動傳感器。

當所述基板移動傳感器檢測到所述基板進入所述液體化學物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的上側以及從所述液體化學物供給器的所述殼體和/或所述純凈水供給器的所述殼體的所述上側離開時，所述清潔滾筒的速度可被可變地控制。