[發明專利]基板清潔裝置

在審

• 申請號: 201310412186.7
• 申請日: 2013-09-11
• 公開（公告）號: CN103658072A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 李承俊;柳廷和;韓蘇拉;申東明
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: B08B1/02
• 分類號: B08B1/02;B08B3/08;B08B7/04;H01L21/67
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 李文穎;周艷玲

1.一種基板清潔裝置，包括：

用于傳送基板的多個傳送滾筒；

將液體化學物供應到所述基板的第一表面的液體化學物供給器；

其中所述液體化學物供給器包括：

殼體；和

清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉地安裝在所述殼體內并且具有被配置為與所述基板接觸的上部分。

2.根據權利要求1所述的基板清潔裝置，進一步包括：

純凈水供給器，用于將純凈水供應到所述基板的所述第一表面，被配置為去除被供應到所述第一表面的所述液體化學物的至少一部分，

其中所述純凈水供給器包括：

殼體；和

清潔滾筒，該清潔滾筒被能旋轉地安裝在所述純凈水供給器的所述殼體內并且具有被配置為與所述基板接觸的上部分。

3.根據權利要求1所述的基板清潔裝置，進一步包括：

空氣供應單元，安裝在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液體化學物噴濺到所述基板的所述第二表面。

4.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，進一步包括：

空氣供應單元，安裝在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液體化學物和所述純凈水噴濺到所述基板的所述上表面。

5.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述液體化學物供給器和所述純凈水供給器中的每一個進一步包括：

將液體供應到所述殼體的內部的泵；和

存儲被供應到所述殼體的內部的液體的液體存儲罐；

其中所述清潔滾筒的一部分浸入被供應到所述殼體的內部的所述液體中。

6.根據權利要求3所述的基板清潔裝置，其中所述清潔滾筒包括圓柱形主體和位于所述圓柱形主體的外圓周表面的多個刷子。

7.根據權利要求3所述的基板清潔裝置，進一步包括：

噴濺防止構件，布置為在比所述清潔滾筒的旋轉中心軸線高的位置處與所述清潔滾筒相鄰，以便當用大量液體浸漬的所述清潔滾筒旋轉時防止液體沿所述殼體的向上方向噴濺。

8.根據權利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構件被定位為低于所述基板并且高于所述清潔滾筒的所述旋轉中心軸線。

9.根據權利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構件為被布置為與所述旋轉中心軸線平行的管。

10.根據權利要求7所述的基板清潔裝置，其中所述噴濺防止構件被形成為在所述清潔滾筒的上部分的兩側的一對噴濺防止構件。

11.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述殼體的長度方向為所述清潔滾筒的軸線延伸的方向，并且

當所述清潔滾筒的所述軸線延伸的方向垂直于所述基板的傳送方向時，平行于所述基板的所述傳送方向的所述殼體的寬度長于所述清潔滾筒的直徑。

12.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，進一步包括位于所述殼體的上表面上的蓋，所述蓋被配置為防止所述液體隨著所述清潔滾筒的旋轉而被噴濺。

13.根據權利要求12所述的基板清潔裝置，其中所述蓋被形成為在所述清潔滾筒的兩側的一對噴濺防止蓋，并且

所述清潔滾筒的上端部分伸出到所述一對噴濺防止蓋之間的開口。

14.根據權利要求4所述的基板清潔裝置，其中所述空氣供應單元包括一對氣刀，并且

所述一對氣刀位于所述液體化學物供給器和所述純凈水供給器中的每一個的上方。

15.根據權利要求14所述的基板清潔裝置，其中當沿所述基板的所述傳送方向觀看時，所述一對氣刀位于所述清潔滾筒的前側和后側。

16.根據權利要求15所述的基板清潔裝置，其中在所述一對氣刀中，位于所述前側的氣刀向所述后側傾斜，并且位于所述后側的氣刀向所述前側傾斜。

17.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，其中當沿所述基板的所述傳送方向觀看時，所述純凈水供給器位于所述液體化學物供給器的后側。

18.根據權利要求2所述的基板清潔裝置，其中所述純凈水供給器的數量為多個。