[發(fā)明專利]圖像處理設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310409486.X
• 申請日: 2013-09-10
• 公開（公告）號: CN103679776A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 川原明宏
• 申請（專利權(quán)）人: 富士通半導(dǎo)體股份有限公司
• 主分類號: G06T11/40
• 分類號: G06T11/40
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 朱勝;陳煒

1.一種對多邊形執(zhí)行圖像處理的圖像處理設(shè)備，包括：

紋理映射單元，配置成獲得包括第一紋理坐標(biāo)和第二紋理坐標(biāo)的像素?cái)?shù)據(jù)，并且基于非線性曲面生成與具有漸變圖案的紋理圖像中的所述第一紋理坐標(biāo)和所述第二紋理坐標(biāo)相對應(yīng)的紋理數(shù)據(jù)，

其中，所述非線性曲面的函數(shù)由第一貝塞爾曲線函數(shù)與第二貝塞爾曲線函數(shù)的乘積限定，并且

所述紋理映射單元包括：

第一貝塞爾曲線函數(shù)計(jì)算單元，配置成通過獲得所述第一紋理坐標(biāo)和所述第一貝塞爾曲線函數(shù)的控制值，計(jì)算所述第一貝塞爾曲線函數(shù)；

第二貝塞爾曲線函數(shù)計(jì)算單元，配置成通過獲得所述第二紋理坐標(biāo)和所述第二貝塞爾曲線函數(shù)的控制值，計(jì)算所述第二貝塞爾曲線函數(shù)；

乘法器，配置成將所述第一貝塞爾曲線函數(shù)計(jì)算單元和所述第二貝塞爾曲線函數(shù)計(jì)算單元的各自輸出相乘；以及

混合處理單元，配置成通過使用所述乘法器的乘積值作為混合比例將與所述漸變圖案相對應(yīng)的多個(gè)顏色數(shù)據(jù)進(jìn)行混合，生成紋理數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理設(shè)備，其中，當(dāng)所述第一紋理坐標(biāo)被設(shè)置為s并且所述第一貝塞爾曲線的所述控制值被設(shè)置為P_i（i=0至n）時(shí)，所述第一貝塞爾曲線函數(shù)如下：

BesiverCurveS(s)=Σi=0nPiBin(s)]]>

當(dāng)所述第二紋理坐標(biāo)被設(shè)置為t并且所述第二貝塞爾曲線的所述控制值被設(shè)置為Q_j（j=0至m）時(shí)，所述第二貝塞爾曲線函數(shù)如下：

BesiverCurveT(t)=Σj=0mQjBjm(t)]]>

其中，

Bin(s)=n!i!(n-1)!si(1-s)n-i]]>

Bjm(t)=m!j!(m-1)!ti(1-t)m-i]]>

以及，

所述非線性曲面的函數(shù)是

BesierCurveS(s)*BesierCurveT(t)={Σi=0nPiBin(s)}{Σj=0mQjBjm(t)}.]]>