[發明專利]一種納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的制備方法有效
| 申請號: | 201310400737.8 | 申請日: | 2013-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN103432598A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發明(設計)人: | 楊國偉;肖俊;劉璞;梁英;李紅波 | 申請(專利權)人: | 中山大學 |
| 主分類號: | A61K49/06 | 分類號: | A61K49/06;A61K49/00;C01F17/00;B82Y30/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 稀土 摻雜 氧化 雙模 造影 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及雙模態造影劑的醫學領域,尤其是指一種納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的制備方法。
背景技術
業內習知,核磁共振成像是現在醫學最常用的診斷方法之一,由于其具有高的分辨率,良好的組織對比度,并且能夠準確地提供各種解剖學細節,所以現在越來越受到重視。造影劑的使用,可以通過改變水質子的弛豫圖像來增強成像效果,人體內的正常器官與病變器官的水分形態有很大差異,通過使用造影劑,可以更好的顯現出差異性,實現對病變組織的診斷。而釓離子由于外層有7個未成對電子,被認為是最好的正造影劑材料。現在很多研究集中于研究氧化釓納米材料作為核磁共振成像造影劑,雖然核磁共振成像有高空間分辨率和較好的成像深度,但是也有靈敏度不夠的問題。因此可以結合光學成像,例如熒光成像,又由于稀土摻雜發光具有高穩定性和長發光壽命,所以稀土摻雜氧化釓納米材料具有重要的研究價值和廣闊的應用前景。我們把結合核磁共振成像以及熒光成像稱為雙模態成像。
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術的不足,提供一種安全可靠的能夠快速制備納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的方法。
為實現上述目的,本發明所提供的技術方案為:一種納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的制備方法,包括以下步驟:
1)將氧化釓靶置于反應容器中,然后在反應容器中注入稀土離子溶液,稀土離子溶液浸沒氧化釓靶;
2)調節脈沖激光光束的光路,使激光光束依次經過全反射鏡和聚焦透鏡后聚焦在氧化釓靶與稀土離子溶液的接觸表面,接觸表面產生等離子體羽;
3)開啟脈沖激光,在激光的作用下進行液體環境中脈沖激光燒蝕反應;
4)反應30~60分鐘后,關閉脈沖激光,然后取出反應后的稀土離子溶液,并對其進行干燥、分離,最后得到所需的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑。
步驟4)中采用去離子水反復洗凈干燥后的稀土離子溶液產物,以實現分離,之后再對分離后的產物進行烘干,便可得到所需的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑。
步驟1)中所述的稀土離子溶液為鑭、鈰、鐠、釹、钷、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、镥稀土離子溶液中的一種或兩種以上的組合。
所述的稀土離子溶液為氯化或硝酸物,濃度為1mmol/L-10mmol/L。
步驟1)中所述稀土離子溶液的上表面高出氧化釓靶上表面5-10mm。
步驟1)中所述氧化釓靶的純度為99%-99.999%,厚度為3-5mm,其表面經過磨平處理。
所述氧化釓靶的形狀為圓形或方形。
所述脈沖激光的頻率為1~10Hz。
所述反應容器為玻璃容器或塑料容器。
本發明與現有技術相比,具有如下優點與有益效果:
1、本發明在稀土離子溶液中利用脈沖激光燒蝕技術制成了納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑(顆粒狀),該方法操作簡單,成本低廉,而且沒有苛刻的操作環境要求,能夠在常溫常壓條件下實現產物的制備;
2、本發明提供的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的制備方法,是在稀土離子溶液環境中利用脈沖激光燒蝕技術,通過改變稀土離子溶液的濃度和種類很容易地實現不同波長的熒光發射;
3、本發明制備的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑不僅能有效地影響水質子的弛豫率,有核磁共振造影能力,而且能在一定波長的光的激發下,發出熒光,實現雙模態成像。
附圖說明
圖1為實施例1中的制備示意圖。
圖2a為實施例1中所得的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的低倍透射電子顯微鏡照片圖。
圖2b為實施例1中所得的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的高倍透射電子顯微鏡照片圖。
圖3為實施例1中納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的X射線衍射分析圖譜。
圖4a為實施例1中納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的T1加權圖。
圖4b為實施例1中納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的磁豫率圖。
圖5a為實施例1中納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的激發譜。
圖5b為實施例1中納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑的發射譜。
圖6為實施例1中在不同濃度的納米稀土摻雜氧化釓雙模態造影劑培養下的細胞存活率圖。
具體實施方式
下面結合多個具體實施例對本發明作進一步說明。
實施例1
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