[發明專利]基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及基板彎曲檢查方法有效
| 申請號: | 201310399086.5 | 申請日: | 2013-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN104181057B | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發明(設計)人: | 蘇正鎬;樸順龍;鄭哲宇;鄭又碩;金兌垠 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | G01N3/32 | 分類號: | G01N3/32;G01N3/06 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 張云珠;戴嵩瑋 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彎曲 裝置 檢查 以及 方法 | ||
1.一種基板彎曲裝置,其特征在于,包括:
工作臺,形成有通孔;
基板吸盤,支撐基板的彎曲對象區域的鄰接面,且通過所述通孔從所述工作臺進出;
升降部,使所述基板吸盤相對于所述工作臺進行上升或下降;以及
覆蓋構件,以覆蓋所述基板的狀態緊貼于所述工作臺,利用所述基板吸盤和所述工作臺的高度之差彎曲所述彎曲對象區域,
在所述基板吸盤從所述工作臺突出的狀態下,所述基板吸盤利用所述基板吸盤和所述工作臺的高度之差將所述基板的彎曲對象區域與所述覆蓋構件一同彎曲,
在所述基板吸盤從所述工作臺突出的狀態下,所述基板的一部分緊貼于所述基板吸盤的側面。
2.根據權利要求1所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述工作臺包括向所述覆蓋構件和所述工作臺之間提供真空壓力的吸引部,以便所述覆蓋構件緊貼于所述工作臺。
3.根據權利要求1所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述工作臺包括用于固定所述覆蓋構件的兩側的至少一對固定器。
4.根據權利要求1所述的基板彎曲裝置,其特征在于,進一步包括用于拍攝所述彎曲對象區域的攝像部。
5.根據權利要求4所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述攝像部包括用于測定所述彎曲對象區域的亮度的亮度測定部。
6.根據權利要求4所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述攝像部包括用于檢查所述彎曲對象區域的外觀的外觀檢查部。
7.根據權利要求1所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述基板吸盤是真空吸附所述基板的多孔吸盤,所述彎曲對象區域的一側鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤的上面,所述彎曲對象區域的另一側鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤的所述側面。
8.根據權利要求7所述的基板彎曲裝置,其特征在于,所述多孔吸盤,在所述上面和所述側面之間具備具有預定曲率半徑的曲面,以便所述彎曲對象區域以保持所述預定曲率半徑的狀態彎曲。
9.一種基板彎曲檢查裝置,其特征在于,包括:
工作臺;
基板吸盤,從所述工作臺突出,用于支撐基板的彎曲對象區域的鄰接面;
覆蓋構件,以覆蓋所述基板的狀態緊貼于所述工作臺,利用所述基板吸盤和所述工作臺的高度之差而彎曲所述彎曲對象區域;以及
攝像檢查部,用于拍攝所述彎曲對象區域,
在所述基板吸盤從所述工作臺突出的狀態下,所述基板吸盤利用所述基板吸盤和所述工作臺的高度之差將所述基板的彎曲對象區域與所述覆蓋構件一同彎曲,
在所述基板吸盤從所述工作臺突出的狀態下,所述基板的一部分緊貼于所述基板吸盤的側面。
10.根據權利要求9所述的基板彎曲檢查裝置,其特征在于,所述攝像檢查部包括用于測定所述彎曲對象區域的亮度的亮度測定部。
11.根據權利要求9所述的基板彎曲檢查裝置,其特征在于,所述攝像檢查部包括用于檢查所述彎曲對象區域的外觀的外觀檢查部。
12.根據權利要求9所述的基板彎曲檢查裝置,其特征在于,進一步包括用于升降所述基板吸盤的升降部,以便所述基板吸盤突出到所述工作臺的上部。
13.根據權利要求9所述的基板彎曲檢查裝置,其特征在于,所述工作臺包括向所述覆蓋構件和所述工作臺之間提供真空壓力的吸引部,以便所述覆蓋構件緊貼于所述工作臺。
14.根據權利要求9所述的基板彎曲檢查裝置,其特征在于,所述工作臺包括用于固定所述覆蓋構件的兩側的至少一對固定器。
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