[發(fā)明專利]一種大量程范圍的折射率測量裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310375467.X | 申請日: | 2013-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN103454247A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊克成;葉駿偉;夏珉;李微;郭文軍;劉昊;阮叢喆 | 申請(專利權(quán))人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G01N21/43 | 分類號: | G01N21/43 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 量程 范圍 折射率 測量 裝置 方法 | ||
1.一種折射率測量裝置,可實現(xiàn)從氣體、液體到玻璃材料的全域范圍內(nèi)折射率的測量,其特征在于,包括:
單色角點光源照明模塊(1),其用于產(chǎn)生進行測量的兩束光束;
參考光路模塊(3),其用于生成參考光,即所述單色角點光源照明模塊(1)產(chǎn)生的兩束光束中的其中一束作為參考光入射到該參考光路模塊(3)中,經(jīng)全反射后出射帶有原始光場信息的參考信息光;
探測模塊(2),其與待測物接觸形成介質(zhì)面(S2),所述單色角點光源照明模塊(1)產(chǎn)生的另一束光束作為探測光入射到該探測模塊(2)并經(jīng)該介質(zhì)面(S2)反射后出射耦合有所述待測物質(zhì)折射率信息的探測信息光;
反射光能量收集模塊(4),其用于分別接收所述參考信息光和探測信息光,并各自將其轉(zhuǎn)換為電信號;以及
圖像處理模塊(5),其對轉(zhuǎn)換為電信號的兩路圖像進行比較,得到相對反射率分布,經(jīng)處理即可提取出待測物質(zhì)的折射率信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種折射率測量裝置,其特征在于,所述參考光路模塊(3)優(yōu)選為三角棱鏡(P1),其底面斜邊上鍍有鋁反射膜形成反射面(S1),所述參考光在該反射面(S1)上發(fā)生全反射。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種折射率測量裝置,其特征在于,所述探測模塊優(yōu)選為三角棱鏡(P2),其底面斜邊與待測物接觸形成介質(zhì)面(S2),所述探測光入射到該介質(zhì)面(S2)被反射,待測物的折射率信息被調(diào)制到反射光中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的一種折射率測量裝置,其特征在于,根據(jù)所述反射率分布曲線可獲得相對反射光能量分布,根據(jù)該相對反射光能量分布可得到其與待測物折射率關(guān)系,從而即可得到待測物的折射率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的一種折射率測量裝置,其特征在于,在待測物折射率小于閾值折射率值時,所述探測光斑圖像中存在一條明暗界限,通過微分法即可提取出該界限位置,從而獲得待測物折射率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的一種折射率測量裝置,其特征在于,在待測物折射率大于或者等于閾值折射率時,通過反射光斑傅里葉特征法提取折射率信息。
7.一種折射率測量方法,可實現(xiàn)從氣體、液體到玻璃材料的全域范圍內(nèi)折射率的測量,其特征在于,該方法具體包括如下步驟:
產(chǎn)生進行測量的兩束光束;
一束光束作為參考光入射到一棱鏡中,經(jīng)其鍍有鋁反射膜的底面進行全反射,出射具有原始光場信息的參考信息光;
另一束光束作為探測光入射到另一棱鏡,經(jīng)其與待測物接觸的底面形成介質(zhì)面上反射,出射耦合有所述待測物質(zhì)折射率信息的探測信息光;
對出射的所述參考信息光和探測信息光進行收集并轉(zhuǎn)換為電信號,并對兩路電信號進行比較,得到相對反射率分布曲線,經(jīng)處理即可提取出待測物質(zhì)的折射率信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種折射率測量方法,其特征在于,根據(jù)所述反射率分布曲線可獲得相對反射光能量分布,根據(jù)該相對反射光能量分布可得到其與待測物折射率關(guān)系,從而得到待測物的折射率。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的一種折射率測量方法,其特征在于,在待測物折射率小于閾值折射率值時,所述光斑的圖像中存在一條明暗界限,通過微分法即可提取出該界限信息,從而獲得待測物折射率。
10.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項所述的一種折射率測量方法,其特征在于,在待測物折射率大于或者等于閾值折射率時,通過分析反射光傅里葉特征點的信息得到待測物質(zhì)的折射率。
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