[發明專利]一種防水卷材成型裝置無效
| 申請號: | 201310367511.2 | 申請日: | 2013-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN103434146A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發明(設計)人: | 陳偉忠;李維為 | 申請(專利權)人: | 昆山科順防水材料有限公司 |
| 主分類號: | B29C70/50 | 分類號: | B29C70/50;B29C70/54 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 張海英 |
| 地址: | 215312 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防水 卷材 成型 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及建筑用材的生產技術領域,尤其涉及一種防水卷材成型裝置。
背景技術
傳統的防水卷材生產線如圖1所述,半浸滾筒半浸在料池中,胎體隨同料液通過半浸滾筒的轉動進入第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之間,通過控制第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之間的間隙來控制產品的厚度。胎體在成品中的位置(即防水卷材中胎體相對上下層涂料的位置)是通過半浸滾筒的調節來實現的;而半浸滾筒同時又起著將料液從料池中帶入胎體的作用;而這兩方面的需求有時候是矛盾的,容易導致胎體的上下層涂料厚度不符合要求。
圖1所示的上產線中,上料口放出料液降落在胎體上,由于壓力作用,胎體會下方的第二對壓滾筒移動,從而使成品中的胎體位置偏下,導致到上下兩面的涂料厚度不同,在涂料少的那面承受較大水壓時,有可能出現穿孔。
發明內容
本發明的目的在于提供防水卷材生產線,能夠控制上料口處的胎體位置,控制胎體相對于第一對壓滾筒和第二對壓滾筒的位置,進而有效控制胎體上側和下側的涂料厚度,獲得合格的防水卷材。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種防水卷材成型裝置,包括上料口、第一對壓滾筒和第二對壓滾筒,防水卷材的胎體依次穿過上料口的下部、第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之間;還包括平衡滾筒,平衡滾筒位于第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之前的胎體的下方的位置。
優選的,胎體為自聚酯無紡布、聚酯網格布、玻纖無紡布或玻纖網格布。
優選的,平衡滾筒位于上料口的正下方的位置。
優選的,平衡滾筒位于上料口的下方左右500mm的范圍內。
其中,還包括料池、池中定位滾筒、半浸滾筒,池中定位滾筒和半浸滾筒部分浸入料池中;池中定位滾筒位于半浸滾筒之前,半浸滾筒位于上料口之前;胎體依次環繞于池中定位滾筒的下部、半浸滾筒的上部。
其中,還包括胎體滾筒,胎體從胎體滾筒繞出進入料池。
其中,還包括池中進料口,池中進料口位于料池內。
優選的,還包括厚度測試儀、移動支架,厚度測試儀位于第一對壓滾筒和第二對壓滾筒的后部;平衡滾筒位于移動支架上,移動支架下部設置有移動輪。移動支架包括下支架、上支架;下支架滑動設置于上支架的內側。厚度測試儀為兩個,兩個厚度測試儀分別位于胎體的上側和下側。
本發明中的涂料為瀝青改性料。
本發明的有益效果為:一種防水卷材成型裝置,包括上料口、第一對壓滾筒和第二對壓滾筒,防水卷材的胎體依次穿過上料口的下部、第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之間;還包括平衡滾筒,平衡滾筒位于第一對壓滾筒和第二對壓滾筒之前的胎體的下方的位置。平衡滾筒能夠支撐胎體,有效平衡上料口送料帶來的壓力,從而可以控制上料口處的胎體位置,控制胎體相對于第一對壓滾筒和第二對壓滾筒的位置,進而有效控制胎體上側和下側的涂料厚度,獲得合格的防水卷材。
附圖說明
為了更清楚、有效地說明本發明實施例的技術方案,將實施例中所需要使用的附圖作簡單介紹,不言自明的是,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域中的普通技術人員來講,無需付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖做出其它附圖。
圖1是現有技術的一種防水卷材成型裝置的生產結構示意圖。
圖2是本發明一種防水卷材成型裝置的第一實施例的生產結構示意圖。
圖3是本發明一種防水卷材成型裝置的第二實施例的生產結構示意圖。
圖4是本發明一種防水卷材成型裝置的圖3的A處的局部放大圖。
圖中:
1-料池;2-進料口;3-胎體滾筒;4-胎體;5-池中定位滾筒;6-半浸滾筒;7-上料口;81-第一對壓滾筒;82-第二對壓滾筒;9-平衡滾筒;10-移動支架;11-移動輪;12-下支架;13-上支架。
具體實施方式
本發明提供了一種防水卷材成型裝置,為了使本領域中的技術人員更清楚的理解本發明方案,并使本發明上述的目的、特征、有益效果能夠更加明白、易懂,下面結合附圖2-4和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
實施例一
一種防水卷材成型裝置,包括上料口7、第一對壓滾筒81和第二對壓滾筒82,防水卷材的胎體4依次穿過上料口7的下部、第一對壓滾筒81和第二對壓滾筒82之間;還包括平衡滾筒9,平衡滾筒9位于第一對壓滾筒81和第二對壓滾筒82之前的胎體4的下部的位置。
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