[發明專利]一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201310352419.9
• 申請日: 2013-08-14
• 公開（公告）號: CN103424925A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 金相秦;權基瑛
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，具體涉及一種陣列基板及其制造方法，以及設有該陣列基板的顯示裝置。

背景技術

隨著顯示技術的不斷發展，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin?Film?Transistor?Liquid?Crystal?Display，簡稱TFT-LCD)已在平板顯示領域中占據了主導地位。TFT-LCD由陣列基板和彩膜基板組成，其中彩膜基板上形成有彩膜和黑矩陣，彩膜為透光區，而其他區域利用黑矩陣遮光，以防止漏光影響顯示效果。

目前，黑矩陣是利用掩膜版構圖工藝，經曝光、刻蝕等步驟形成在彩膜基板上，其中使用的光刻膠（Photo?Resist，簡稱PR）通常是負性光刻膠，即曝光時被光照到的光刻膠會保留下來。為了保證曝光質量，光刻膠中都含有大量的溶劑，并且對光刻膠進行曝光時一般都采用接近式曝光，而光刻膠中的溶劑很容易揮發，使得彩膜基板的邊框區域上方的掩膜版被污染，這會造成一些本應照射到光刻膠上的光線被遮擋，導致彩膜基板的邊框區域的黑矩陣被過多的刻蝕掉，發生漏光現象，影響顯示效果。

發明內容

本發明實施例提供了一種陣列基板及其制造方法，以及設有該陣列基板的顯示裝置，解決了現有技術中液晶顯示器的邊框區域發生漏光現象，影響顯示效果的技術問題。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

本發明提供了一種陣列基板，在所述陣列基板的邊框區域包括第一金屬層和第二金屬層，以及位于所述第一金屬層和所述第二金屬層之間的絕緣層，所述第一金屬層包括引線圖形，所述第二金屬層包括遮光圖形，所述遮光圖形遮擋所述引線圖形以外的部分所對應的區域。

進一步，所述遮光圖形的部分或全部由多個島狀圖形組成，相鄰的所述島狀圖形之間存在縫隙。

進一步，所述第一金屬層為柵極金屬層，所述引線圖形為柵極引線圖形，所述第二金屬層為數據線金屬層。

或者，所述第一金屬層為數據線金屬層，所述引線圖形為數據線引線圖形，所述第二金屬層為柵極金屬層。

優選的，所述第一金屬層或所述第二金屬層從上至下依次由鉬層、鋁層、鉬層復合形成。

本發明還提供了一種陣列基板的制造方法，包括：

在襯底基板上形成柵極金屬層，所述柵極金屬層包括位于所述襯底基板的邊框區域的柵極引線圖形；

在所述襯底基板上形成柵絕緣層；

在所述襯底基板上形成數據線金屬層，所述數據線金屬層包括位于所述襯底基板的邊框區域的遮光圖形，且所述遮光圖形遮擋所述柵極引線圖形以外的部分所對應的區域。

本發明還提供了另一種陣列基板的制造方法，包括：

在襯底基板上形成柵極金屬層，所述柵極金屬層包括位于所述襯底基板的邊框區域的遮光圖形；

在所述襯底基板上形成柵絕緣層；

在所述襯底基板上形成數據線金屬層，所述數據線金屬層包括位于所述襯底基板的邊框區域的數據線引線圖形，且所述遮光圖形遮擋所述數據線引線圖形以外的部分所對應的區域。

本發明還提供了一種顯示裝置，包括彩膜基板和上述的陣列基板。

與現有技術相比，本發明所提供的上述技術方案具有如下優點：位于陣列基板的邊框區域的引線圖形具有遮光作用，同時位于陣列基板的邊框區域的遮光圖形也具有遮光作用，并且遮光圖形遮擋了引線圖形以外的部分所對應的區域，所以引線圖形與遮光圖形相配合就能夠遮擋住陣列基板的邊框區域的所有光路。因此，陣列基板的邊框區域的光線會被引線圖形和遮光圖形遮擋住，即使彩膜基板的邊框區域的黑矩陣被過多刻蝕而產生漏光點，也不會發生漏光現象，從而使液晶顯示器的顯示效果不受漏光影響。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。

圖1為本發明的實施例1所提供的陣列基板的截面示意圖；

圖2為本發明的實施例1所提供的陣列基板的平面示意圖；

圖3為本發明的實施例1所提供的陣列基板的遮光效果示意圖；

圖4為本發明的實施例2所提供的陣列基板的截面示意圖；

圖5為本發明的實施例2所提供的陣列基板的遮光效果示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述。