[發(fā)明專利]一種基片傳輸裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310338596.1
• 申請日: 2013-08-06
• 公開（公告）號: CN103420165A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設計）人: 佘鵬程;孫雪平;易文杰;賈京英
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: B65G49/06
• 分類號: B65G49/06;B65G54/02;C23C14/24
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強;李發(fā)軍

技術領域

本發(fā)明涉及一種基片傳輸裝置，尤其涉及一種適用于真空系統(tǒng)中非接觸式傳送基片的傳輸裝置。

背景技術

隨著科學技術的迅猛發(fā)展，對工業(yè)工藝要求日益增高，真空技術在高科技產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出廣闊的應用前景，尤其體現(xiàn)在對真空環(huán)境要求極高的數(shù)碼顯示面板產(chǎn)業(yè)中。如有機發(fā)光顯示器件(OLED，Organic?Light-Emitting?Diode)?面板的有機物蒸鍍制程，在大尺寸玻璃基板上沉積有機膜層，其沉積掩膜精度為微米級，若沉積過程中存在顆粒污染，就會造成局部顯示盲點，造成器件不合格，嚴重影響產(chǎn)品良品率。由于此類制程的工藝要求比較嚴格，即必須在真空狀態(tài)下以及完全潔凈的空間環(huán)境中進行，因此，有必要提供一種高清潔度、無污染、能夠平穩(wěn)以及具有較高可靠性的真空基片傳輸裝置。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有的基片接觸式傳輸系統(tǒng)平穩(wěn)性和可靠性不高的不足，本發(fā)明旨在提供一種基片傳輸裝置，該基片傳輸裝置采用非接觸式全自動傳送，確保基片可以平穩(wěn)、快速的在各工藝腔室內(nèi)的傳送，同時不會造成顆粒污染。

本發(fā)明進一步的目的是實現(xiàn)在真空狀態(tài)下以及完全潔凈的空間環(huán)境中進行平穩(wěn)、快速的非接觸式傳送。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術方案是：

一種基片傳輸裝置，其結構特點是，包括磁軌，懸浮于磁軌上方的承載基片用的基片載體，位于基片載體至少一側的由驅動裝置驅動轉動的傳動輪，所述傳動輪與基片載體側壁之間具有間隙；周向裝有磁鐵的所述傳動輪驅動至少一側面上裝有磁鐵的所述基片載體沿磁軌的長度方向移動。

由此，基片載體在傳動輪的帶動下，沿著磁軌懸浮移動，從而實現(xiàn)基片在基片載體可以沿著磁軌的長度方向平穩(wěn)、快速的在各工藝腔室內(nèi)的傳送。

以下為本發(fā)明的進一步改進的技術方案：

根據(jù)本發(fā)明的實施例，為了基片載體平穩(wěn)運行，所述磁軌為兩排平行布置的磁體；所述基片載體下側面設有與磁軌上側面磁極相同的基片載體底部磁體，從而利用同性磁鐵相斥的原理，實現(xiàn)懸浮的目的。更進一步地，所述磁軌的縱截面呈等腰梯形，所述基片載體底部磁體呈倒U形，所述磁軌與基片載體的U型永磁體對中布置，且倒U形開口兩端磁極相同并向內(nèi)倒角。

為了保證基片載體運行的平穩(wěn)性，所述基片載體兩側面上均設有多個基片載體側面磁鐵。更進一步地，同一側面的相鄰兩個所述基片載體側面磁鐵朝外的磁極相反，可以使得傳動輪上的磁鐵對基片載體產(chǎn)生一推一吸的目的，驅動基片載運動。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述基片載體兩側均設有傳動輪，每個傳動輪周向設有多個永磁體，相鄰的兩個永磁體朝外的磁極相反，且傳動輪上的相鄰兩個永磁體的展開間距與基片載體側面相鄰兩個永磁體的間距相同。

為了更好地使傳動輪對基片載體產(chǎn)生一推一吸的效果，所述基片載體兩側均設有多個傳動輪，每個傳動輪與基片載體側面某相鄰兩個永磁體之間中點的距離最短。

更進一步地，所述磁軌、基片載體、傳動輪均位于一真空腔體內(nèi)，從而實現(xiàn)在真空狀態(tài)下以及完全潔凈的空間環(huán)境中進行平穩(wěn)、快速的非接觸式傳送。

藉由上述結構，本發(fā)明所述的一種基片傳輸裝置主要用于基片在各真空工藝腔室中傳輸，包括驅動裝置、磁軌、傳動輪以及承載基片用的基片載體。所述基片載體底部布置有兩排永磁體，單個永磁體呈U型，開口向下，且開口兩邊磁極相同，并向內(nèi)倒角。所述基片載體運動方向兩側面布置有對稱的若干永磁體，均勻分布，且相鄰的兩個永磁體朝外的磁極相反。所述傳動輪與驅動裝置相連，對稱均勻分布在基片載體兩側，接近基片載體但不直接接觸，傳動輪上四周均布有若干永磁體，相鄰的兩個永磁體朝外的磁極相反，且永磁體展開間距與基片載體上的側面永磁體間距相同。所述磁軌分兩排，對應分布在基片載體下方，截面形狀上窄下寬，與基片載體底部U型永磁體對中布置，且近端磁極相同。