[發明專利]懸浮液、研磨液套劑、研磨液、基板的研磨方法及基板有效
| 申請號： | 201310335723.2 | 申請日： | 2011-11-21 |
| 公開（公告）號： | CN103497733B | 公開（公告）日： | 2016-11-23 |
| 發明（設計）人： | 巖野友洋;成田武憲;龍崎大介 | 申請（專利權）人： | 日立化成株式會社 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本國東京都千*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 懸浮液 研磨 液套劑 方法 | ||
1.一種懸浮液，含有磨粒和水，其中，
所述磨粒含有4價金屬元素的氫氧化物，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長400nm的光的吸光度在1.50以上的物質，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長500nm的光的透光率在50%／cm以上的物質。
2.一種懸浮液，含有磨粒和水，其中，
所述磨粒含有4價金屬元素的氫氧化物，
且，在所述磨粒的含量調節至0.0065質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長290nm的光的吸光度在1.000以上的物質，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長500nm的光的透光率在50%／cm以上的物質。
3.一種研磨液，含有磨粒、添加劑和水，其中，
所述磨粒含有4價金屬元素的氫氧化物，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長400nm的光的吸光度在1.50以上的物質，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長500nm的光的透光率在50%／cm以上的物質。
4.一種研磨液，含有磨粒、添加劑和水，其中，
所述磨粒含有4價金屬元素的氫氧化物，
且，在所述磨粒的含量調節至0.0065質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長290nm的光的吸光度在1.000以上的物質，
且，在所述磨粒的含量調節至1.0質量%的水分散液中，所述磨粒，是使該水分散液對于波長500nm的光的透光率在50%／cm以上的物質。
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