[發明專利]一種具有雙層鈍化膜的AlGaN基紫外探測器及制備方法無效
| 申請號: | 201310325082.2 | 申請日: | 2013-07-30 |
| 公開(公告)號: | CN103413839A | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發明(設計)人: | 劉秀娟;張燕;李向陽;王立偉;盧怡丹;常超 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/18;C23C16/34;H01L31/105 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 雙層 鈍化 algan 紫外 探測器 制備 方法 | ||
1.一種具有雙層鈍化膜的AlGaN基紫外探測器,器件結構為:在藍寶石襯底(1)上依次為AlN緩沖層(2)、n型AlGaN層(3)、i型AlGaN層(4)、p型AlGaN層(5)、下層Si3N4鈍化膜(8)、上層Si3N4鈍化膜(9),n歐姆接觸電極(6)位于n型AlGaN層(3)上,p歐姆接觸電極(7)位于p型AlGaN層(5)上,其特征在于,在AlGaN基紫外探測器的結構的臺面表面以及臺面側面有兩層鈍化膜,即下層Si3N4鈍化膜(8)和上層Si3N4鈍化膜(9);所述的下層Si3N4鈍化膜(8)的膜厚為1000-2000埃,所述的上層Si3N4鈍化膜(9)的膜厚為2000-3000埃。
2.根據權利要求1所述的一種具有雙層鈍化膜的AlGaN基紫外探測器,其特征在于,所述的下層Si3N4鈍化膜(8)采用感應耦合等離子體化學氣相沉積方式制備,沉積時的工藝參數為:沉積溫度75℃,腔體壓強為10mTorr,ICP源功率為550W,氣體流量比SiH4:N2=15.0sccm:12.5sccm,腔體射頻RF功率為0W,沉積時間為6.5min-13min。
3.根據權利要求1所述的一種具有雙層鈍化膜的AlGaN基紫外探測器,其特征在于,所述的上層Si3N4鈍化膜(9)采用感應耦合等離子體化學氣相沉積方式制備,沉積時的工藝參數為:沉積溫度75℃,腔體壓強為10mTorr,ICP源功率為550W,氣體流量比SiH4:N2=16.5sccm:12.5sccm,腔體射頻RF功率為5W,沉積時間為14min-21min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院上海技術物理研究所,未經中國科學院上海技術物理研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310325082.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





