[發(fā)明專利]一種微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310303765.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103447693A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈鑫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海電機(jī)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | B23K26/36 | 分類號(hào): | B23K26/36;B23K26/067;G02B27/28 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 200240 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微米 納米 復(fù)合 周期 結(jié)構(gòu) 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及超短脈沖微加工和多光束干涉技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種基于飛秒激光干涉技術(shù)的微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的制備方法。
背景技術(shù)
激光干涉技術(shù)是制備周期性結(jié)構(gòu)的有效手段之一,并且由于其工藝簡(jiǎn)單并且成本低廉而得到了廣泛的應(yīng)用。激光干涉技術(shù)是將多束激光以一定的夾角入射到樣品上同一區(qū)域進(jìn)行相干,形成的強(qiáng)度分布圖樣刻印在光敏材料上,從而制備周期性結(jié)構(gòu)。通過(guò)改變光束數(shù)量以及光束間的排列方式能夠制備不同周期的規(guī)則二維、三維結(jié)構(gòu)。
現(xiàn)有激光干涉技術(shù)制備的周期結(jié)構(gòu)往往大于激光波長(zhǎng),處于微米量級(jí),不易得到納米量級(jí)的周期性結(jié)構(gòu)。同時(shí),周期性結(jié)構(gòu)的排列位置僅由激光干涉的強(qiáng)度分布所決定。若要得到不同排列形狀的周期結(jié)構(gòu),需要重新建立激光干涉系統(tǒng)以改變光束數(shù)量和空間位置。因此,激光干涉技術(shù)得到的周期結(jié)構(gòu)花樣單調(diào),缺乏靈活性。
自2002年開始,飛秒激光照射某些半導(dǎo)體后,能夠在材料表面和內(nèi)部誘導(dǎo)尺度遠(yuǎn)小于激光波長(zhǎng)的準(zhǔn)周期納米結(jié)構(gòu)。激光偏振狀態(tài)決定了納米結(jié)構(gòu)的形狀,一般來(lái)說(shuō),線偏振光誘導(dǎo)納米條紋結(jié)構(gòu),且條紋方向與激光偏振方向垂直;圓偏振光誘導(dǎo)納米顆粒結(jié)構(gòu)。這一方法在材料改性上具有很大的應(yīng)用前景,通過(guò)這一方法已制備了吸收率極大增強(qiáng)的“黑硅”,在金屬表面制備條紋結(jié)構(gòu)得到各種有色金屬以及電導(dǎo)率增強(qiáng)的SiC半導(dǎo)體等。
然而,飛秒激光誘導(dǎo)的準(zhǔn)周期納米結(jié)構(gòu)與激光偏振相關(guān),若想得到不同類型的納米花樣,需要不斷改變激光的偏振狀態(tài),制備時(shí)間長(zhǎng),所得結(jié)構(gòu)的周期性、均勻性較差。
因此,需要一種利用飛秒激光干涉技術(shù)制備嵌套型微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的方法,以避免上述缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的制備方法,以解決傳統(tǒng)激光干涉技術(shù)中花樣單調(diào)、缺乏靈活性的問(wèn)題。
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提出一種微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的制備方法,包括以下步驟:
建立飛秒激光四光束干涉系統(tǒng),使得所述飛秒激光四光束干涉系統(tǒng)產(chǎn)生的四束光的空間位置呈正方形排布,且最終出射后共焦和相互干涉;
提供用以制備不同的微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)的多個(gè)半導(dǎo)體樣品;
針對(duì)每個(gè)半導(dǎo)體樣品來(lái)改變所述四束光的偏振狀態(tài)和能量后,將相應(yīng)的半導(dǎo)體樣品放置在四束光的共焦處燒蝕,制備出相應(yīng)的微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu),每個(gè)微米納米復(fù)合周期結(jié)構(gòu)均包括干涉強(qiáng)度花樣決定的微米長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)和飛秒激光誘導(dǎo)的準(zhǔn)周期納米結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步的,所述飛秒激光四光束干涉系統(tǒng)包括:
光源(1),用于產(chǎn)生飛秒激光脈沖;
電子快門(2),其開合時(shí)間決定照射的飛秒激光脈沖數(shù);
第一半波片(3)和第一格蘭棱鏡(4),用于調(diào)節(jié)穿過(guò)電子快門(2)的飛秒激光脈沖的能量和偏振方向;
第一分束片(5);用于對(duì)調(diào)節(jié)后的飛秒激光脈沖進(jìn)行第一分光,分成能量相同的反射光束E、透射光束F兩束光;
第二分束片(6),用于對(duì)入射至的反射光束E進(jìn)行第二次分光,分為能量相同的反射光束A、透射光束C兩束光;
第一全反光鏡(7)、第一匯聚透鏡(8)和第二半波片(9),用于將入射至的反射光束A反射、匯聚后照射在替代樣品(25)表面點(diǎn)O處;
第一延時(shí)光路系統(tǒng)(10)、第二全反光鏡(11)、第三全反光鏡(12)、第二匯聚透鏡(13)和第三半波片(14),用于將入射至的透射光束C延時(shí)、全反射、匯聚后照射在替代樣品(25)表面點(diǎn)O處共焦;
第三分束片(15),用于對(duì)入射至的透射光束F進(jìn)行第二次分光,分為能量相同的反射光束B、透射光束D兩束光;
第二延時(shí)光路系統(tǒng)(16)、第四全反光鏡(17)、第五全反光鏡(18)、第三匯聚透鏡(19)和第四半波片(20),用于將入射至的反射光束B延時(shí)、全反射、匯聚后照射在替代樣品(25)表面點(diǎn)O處共焦;
第三延時(shí)光路系統(tǒng)(21)、第六全反光鏡(22)、第四匯聚透鏡(23)和第五波片(24),用于將入射至的透射光束D延時(shí)、反射、匯聚后照射在替代樣品(25)表面點(diǎn)O處共焦。
進(jìn)一步的,建立所述飛秒激光四光束干涉系統(tǒng)的步驟包括:
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B23K 釬焊或脫焊;焊接;用釬焊或焊接方法包覆或鍍敷;局部加熱切割,如火焰切割;用激光束加工
B23K26-00 用激光束加工,例如焊接,切割,打孔
B23K26-02 .工件的定位和觀測(cè),如相對(duì)于沖擊點(diǎn),激光束的對(duì)正,瞄準(zhǔn)或聚焦
B23K26-08 .激光束與工件具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)的裝置
B23K26-12 .在一特殊氣氛中,例如在罩中
B23K26-14 .利用流體,如氣體的射流,與激光束相結(jié)合
B23K26-16 .排除副產(chǎn)物,例如對(duì)工件處理時(shí)產(chǎn)生的微粒或蒸氣





