[發(fā)明專利]ITO粉末及其制造方法、以及分散液和ITO膜的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310295783.6 | 申請日： | 2013-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN103693679B | 公開（公告）日： | 2017-04-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 米澤岳洋;山崎和彥;竹之下愛 | 申請（專利權(quán)）人： | 三菱綜合材料株式會社 |
| 主分類號： | C01G19/00 | 分類號： | C01G19/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11018 | 代理人： | 康泉,王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | ito 粉末 及其 制造 方法 以及 分散 | ||
1.一種表面改性的ITO粉末，其特征在于，
將對由所述ITO粉末構(gòu)成的壓坯施加0.196～29.42MPa的壓力時的所述壓坯的體積電阻率設(shè)為Y并將所述壓坯的相對密度設(shè)為X時，所述體積電阻率與所述相對密度之間的關(guān)系以下述公式（1）來擬合，在該公式（1）中，a為5.0×10-3以下，且n為-10以上
Y=aXn（1）。
2.一種ITO粉末的制造方法，其為權(quán)利要求1所述的ITO粉末的制造方法，其包括如下工序：
在3價銦化合物和4價錫化合物的混合水溶液中混合堿性水溶液來生成銦與錫的共沉淀氫氧化物；以純水或離子交換水清洗所述共沉淀氫氧化物；去除所述共沉淀氫氧化物的上清液來制備分散有銦錫氫氧化物顆粒的漿料；干燥所述漿料；及燒成所述干燥的銦錫氫氧化物來獲得銦錫氧化物，
所述制造ITO粉末的方法的特征在于，
在所述清洗的工序中，清洗至所述上清液的電阻率至少達(dá)到5000Ω·cm，
在所述漿料的制備工序中，將去除了所述上清液的漿料以水進(jìn)行稀釋以使所述氫氧化物顆粒的濃度成為10～30質(zhì)量%的范圍后，在攪拌的同時向所述漿料中添加相對于所述氫氧化物顆粒100質(zhì)量%為0.1～5質(zhì)量%的范圍的有機(jī)保護(hù)劑，
在所述燒成的工序之后，粉碎已燒成的ITO粉末的聚集體，將該粉碎的ITO粉末浸漬于表面處理液后，在氮氣氣氛下，在200～400℃的范圍加熱0.5～5小時。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其中，
所述有機(jī)保護(hù)劑為棕櫚基二甲基乙基銨乙基硫酸鹽、聚乙烯醇或辛基二甲基乙基銨乙基硫酸鹽。
4.一種ITO粉末的制造方法，其為權(quán)利要求1所述的ITO粉末的制造方法，其包括如下工序：
在3價銦化合物和4價錫化合物的混合水溶液中混合堿性水溶液來生成銦與錫的共沉淀氫氧化物；以純水或離子交換水清洗所述共沉淀氫氧化物；去除所述共沉淀氫氧化物的上清液來制備分散有銦錫氫氧化物顆粒的漿料；干燥所述漿料；及燒成所述干燥的銦錫氫氧化物來獲得銦錫氧化物，
所述制造ITO粉末的方法的特征在于，
在所述清洗的工序中，清洗至所述上清液的電阻率至少達(dá)到5000Ω·cm，
在所述漿料的制備工序中，將去除了所述上清液的漿料以水進(jìn)行稀釋以使所述氫氧化物顆粒的濃度成為10～30質(zhì)量%的范圍后，在攪拌的同時向所述漿料中添加相對于所述氫氧化物顆粒100質(zhì)量%為0.1～5質(zhì)量%的范圍的有機(jī)保護(hù)劑，
在所述干燥的工序中，對添加有所述有機(jī)保護(hù)劑且分散有銦錫氫氧化物的漿料進(jìn)行干燥，
在所述燒成的工序中，在大氣中以2.45GHz～28GHz的微波進(jìn)行加熱燒成，
在所述燒成的工序之后，粉碎已燒成的ITO粉末的聚集體，將該粉碎的ITO粉末浸漬于表面處理液后，在氮氣氣氛下，在200～400℃的范圍加熱0.5～5小時。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制造方法，其中，
所述有機(jī)保護(hù)劑為棕櫚基二甲基乙基銨乙基硫酸鹽、聚乙烯醇或辛基二甲基乙基銨乙基硫酸鹽。
6.一種ITO粉末的制造方法，其為權(quán)利要求1所述的ITO粉末的制造方法，其包括如下工序：
在3價銦化合物和4價錫化合物的混合水溶液中混合堿性水溶液來生成銦與錫的共沉淀氫氧化物；以純水或離子交換水清洗所述共沉淀氫氧化物；去除所述共沉淀氫氧化物的上清液來制備分散有銦錫氫氧化物顆粒的漿料；干燥所述漿料；及燒成所述已干燥的銦錫氫氧化物來獲得銦錫氧化物，
所述制造ITO粉末的方法的特征在于，
在所述清洗的工序中，清洗至所述上清液的電阻率至少達(dá)到5000Ω·cm，
在所述漿料的制備工序中，將去除了所述上清液的漿料以醇進(jìn)行稀釋以使所述氫氧化物顆粒的濃度成為1～5質(zhì)量%的范圍后，在攪拌的同時向所述漿料中添加相對于所述氫氧化物顆粒100質(zhì)量%為0.1～5質(zhì)量%的范圍的有機(jī)保護(hù)劑，
在所述燒成的工序中，向加熱至250～800℃的范圍的管式爐的內(nèi)部，在使氮氣以0.5～5m/s的范圍的線速度流通的狀態(tài)下，將以所述醇稀釋且添加有所述有機(jī)保護(hù)劑并且分散有銦錫氫氧化物顆粒的漿料進(jìn)行噴霧，從而在所述管式爐內(nèi)熱分解并燒成銦錫氫氧化物顆粒來獲得銦錫氧化物顆粒。
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