[發明專利]磁控濺射靶材護罩及磁控濺射卷繞鍍膜設備

有效

• 申請號: 201310274710.9
• 申請日: 2013-07-02
• 公開（公告）號: CN103343322A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 李晨光;徐少東
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

技術領域

本發明涉及磁控濺射領域，特別是涉及一種磁控濺射靶材護罩及應用該磁控濺射靶材護罩的磁控濺射卷繞鍍膜設備。

背景技術

觸摸屏是一種顯著改善人機操作界面的輸入設備，具有直觀、簡單、快捷的優點。觸摸屏在許多電子產品中已經獲得了廣泛的應用，比如手機、個人數字助理（Personal?Digital?Assistant，PDA）、多媒體、公共信息查詢系統等。

觸摸屏的導電膜可以通過磁控濺射卷繞鍍膜設備來制備。磁控濺射是在陰極靶材的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產生的二次電子在陰極位降區內被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發生碰撞并向氣體分子轉移能量使之電離，而高能電子本身變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收，避免高能電子對極板的強烈轟擊，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起損傷的根源，體現磁控濺射中極板“低溫”的特點。

然而在磁控濺射鍍膜過程中，容易產生沉積物等雜質，產生的沉積物等雜質落入靶材下方積累于水平護罩表面，濺射時間越長，沉積物越多，清潔時該沉積物很難被清潔徹底。這些沉積物等雜質顆粒在濺射鍍膜的過程中放電，放電時產生電火花，極易造成陰極靶材打火現象，嚴重影響產品品質。

發明內容

基于此，有必要針對沉積物難以被清潔容易造成陰極靶材打火現象的問題，提供一種沉積物容易被清潔的磁控濺射靶材護罩及應用該磁控濺射靶材護罩的磁控濺射卷繞鍍膜設備。

一種磁控濺射靶材護罩，包括：

絕緣柱，所述絕緣柱的一端固定于鍍膜腔室內壁；

第一護罩，呈板狀結構，所述第一護罩與所述絕緣柱的另一端連接，以使所述第一護罩固定于所述鍍膜腔室內壁，所述第一護罩開設有第一通孔，所述第一通孔可引導沉積物等雜質通過以落入所述鍍膜腔室內壁；

第二護罩，呈板狀結構，所述第二護罩的數量為至少一個，所述第二護罩可拆卸地安裝于所述第一護罩端部，所述第一護罩和所述第二護罩形成收容腔，所述收容腔用于收容陰極靶材。

在其中一個實施例中，所述第一通孔為長條形孔。

在其中一個實施例中，所述第一通孔位于所述第一護罩的邊緣。

在其中一個實施例中，所述第一護罩的側面為長方形，所述第一通孔沿長方形的長邊延伸。

在其中一個實施例中，所述第一護罩上還開設有第二通孔，所述絕緣柱穿設所述第二通孔連接于所述陰極靶材。

在其中一個實施例中，所述第二護罩通過螺紋緊固件安裝于所述第一護罩的端部。

在其中一個實施例中，還包括楔形條，所述楔形條可拆卸地安裝于所述第二護罩遠離所述第一護罩的一端，所述陰極靶材位于所述楔形條和所述第一護罩之間。

在其中一個實施例中，所述第一護罩和所述第二護罩均為金屬護罩。

一種磁控濺射卷繞鍍膜設備，用于在柔性基材上濺射鍍膜，包括：

鍍膜輥，所述鍍膜輥用于卷繞基材；

至少兩個陰極靶材，相鄰兩個所述陰極靶材呈預定角度設置，所述陰極靶材包括濺射面和與所述濺射面相對的背面，所述陰極靶材通過所述濺射面濺射靶原子至基材；

定位裝置，為直三棱柱形，所述定位裝置位于相鄰兩個所述陰極靶材之間，所述定位裝置的兩相鄰側面分別垂直于相鄰兩個所述陰極靶材所在的平面；

至少兩個陰極靶材底座，所述陰極靶材卡嵌于所述陰極靶材底座，以支撐所述陰極靶材，及

至少如以上所述的磁控濺射靶材護罩，所述相鄰兩個磁控濺射靶材護罩分別位于所述定位裝置兩側，相鄰兩個所述第一護罩的一端固定于所述定位裝置的一側。

在其中一個實施例中，所述定位裝置的底部設有定位裝置底座，所述定位裝置底座為楔形塊狀，所述定位裝置底座的兩相對側面凹設有凹槽，相鄰兩個所述第一護罩分別插設于定位裝置底座兩側的凹槽。