[發明專利]兩級式補正裝置及曝光機基座

無效

• 申請號: 201310269907.3
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN103293880A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 黃章詠;劉健行;劉剛
• 申請（專利權）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 趙根喜;呂俊清

1.一種兩級式補正裝置，其包括一級補正裝置及二級補正裝置；一級補正裝置位于基座與下部臺面之間；二級補正裝置位于基座與上部臺面之間。

2.根據權利要求1所述的兩級式補正裝置，其中，所述一級補正裝置包括長邊方向都順X或Y方向延伸的兩排線性電機。

3.根據權利要求2所述的兩級式補正裝置，其中，所述二級補正裝置包括長邊方向都順X或Y方向延伸的兩排線性電機。

4.根據權利要求3所述的兩級式補正裝置，其中，所述線性電機包括定子及動子，所述定子固定于下部臺面，所述動子固定于上部臺面；所述動子內具有多個電磁線圈；所述定子具有多個永磁鐵。

5.根據權利要求4所述的兩級式補正裝置，其中，所述定子形狀為方形，所述動子外形呈倒L形；所述各動子均位于所述各定子內側，所述動子與定子之間具有X或Y方向間隙。

6.根據權利要求5所述的兩級式補正裝置，其中，所述將各排線性電機中部空出，每排只在兩端形成兩個線性電機。

7.根據權利要求1至6任一項所述的兩級式補正裝置，其中，若需補正的量較小，由所述一級補正裝置進行補正；若補正量較大，無法單一通過所述一級補正裝置進行補正時，剩余需補正的量由第二補正裝置進行補正。

8.一種兩級補正的曝光機基座，包括曝光基座、基板保持臺面；其包括一級補正裝置及二級補正裝置；一級補正裝置位于曝光基座與承載臺之間；二級補正裝置位于曝光基座與基板保持臺面之間。

9.根據權利要求7所述的曝光機基座，其中，所述一級補正裝置包括四個線性電機，所述四個線性電機呈矩形分布。

10.根據權利要求8所述的曝光機基座，其中，所述二級補正裝置包括四個線性電機，所述四個線性電機呈矩形分布。

11.根據權利要求9所述的曝光機基座，其中，所述線性電機包括定子及動子，所述定子固定于下部臺面，所述動子固定于上部臺面；所述動子內具有多個電磁線圈；所述定子具有多個永磁鐵。

12.根據權利要求10所述的曝光機基座，其中，所述定子形狀為方形，所述動子外形呈倒L形；所述各動子均位于所述各定子內側，所述動子與定子之間具有X或Y方向間隙。

13.根據權利要求11所述的曝光機基座，其中，所述各動子及定子長度方向均順X或Y同一方向延伸。

14.根據權利要求8所述的曝光機基座，其中，所述基板保持臺面上具有多個定位頂針，玻璃基板卡在所述定位頂針一側，以此定位所述玻璃基板。

15.根據權利要求8至14任一項所述的兩級式補正裝置，其中，若需補正的量較小，由所述一級補正裝置進行補正；若補正量較大，無法單一通過所述一級補正裝置進行補正時，剩余需補正的量由第二補正裝置進行補正。