[發明專利]用于燒堿、片堿濃縮的降膜蒸發器中的再分布裝置

有效

• 申請號: 201310264708.3
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN103349842A
• 公開（公告）日: 2013-10-16
• 發明（設計）人: 彭小紅;杜修權;朱仁華;狐素琴;馬榮輝;陳華;康英龍;石建;葉展;劉帝;葉凌
• 申請（專利權）人: 張家港化工機械股份有限公司
• 主分類號: B01D1/22
• 分類號: B01D1/22;B01D1/30;C01D1/42
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
• 代理人: 黃春松

1.用于燒堿、片堿濃縮的降膜蒸發器中的再分布裝置，包括：降膜濃縮管，降膜濃縮管的上端伸入至堿液進口管箱內，堿液進口管箱上設置有堿液進口，位于堿液進口管箱內的降膜濃縮管上端的圓周上均勻設置有若干布膜槽，每個布膜槽均貫穿降膜濃縮管的管壁，降膜濃縮管的管孔內沿軸向設置有葉片安裝桿，葉片安裝桿從上至下螺旋布置有若干再分布葉片、且每個再分布葉片均向下傾斜延伸至靠近降膜濃縮管的內壁，再分布葉片的外邊緣與降膜濃縮管內壁之間形成液膜流通的流道，其特征在于：所述的葉片安裝桿設置在降膜濃縮管內上段部分的管孔內，且葉片安裝桿的長度為降膜濃縮管總長的三分之二。

2.根據權利要求1所述的用于燒堿、片堿濃縮的降膜蒸發器中的再分布裝置，其特征在于：所述的每個布膜槽均沿同一旋轉方向沿降膜濃縮管的切向設置。

3.根據權利要求1或2所述的用于燒堿、片堿濃縮的降膜蒸發器，其特征在于：葉片安裝桿上的相鄰兩個再分布葉片之間的間距為200mm～300mm。