[發(fā)明專利]X射線處理裝置及X射線處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310261306.8
• 申請(qǐng)日: 2013-06-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103586931B
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鹽澤育夫;齊藤努
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工精密有限公司
• 主分類號(hào): B26F1/16
• 分類號(hào): B26F1/16;B26D7/00
• 代理公司: 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 談晨雯

1.一種X射線處理裝置，其特征在于包括：

作業(yè)平臺(tái)（11），載置被處理體（101）；

X射線處理機(jī)構(gòu)（12R、12L），對(duì)配置在所述作業(yè)平臺(tái)（11）上的指定處理區(qū)域（11a）的所述被處理體（101）照射X射線進(jìn)行處理；

X射線屏蔽罩（21），配置在所述作業(yè)平臺(tái)（11）上，具有所述被處理體（101）的搬入口（22），且覆蓋所述處理區(qū)域（11a）；

X射線屏蔽機(jī)構(gòu)（158a～158c），配置在所述X射線屏蔽罩（21）的所述搬入口（22）；及

按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L），配置在所述被處理體（101）向所述搬入口（22）的搬送路（11b）上，且按壓并壓扁殘存在所述被處理體（101）的邊部的毛邊部（102）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）與所述毛邊部（102）的接觸部分形成為曲面形狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）包括擺動(dòng)支撐部（154），對(duì)所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）可擺動(dòng)地支撐。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述X射線屏蔽機(jī)構(gòu)（158a～158c）包括包含X射線屏蔽性材料的片材。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述片材包括隔開(kāi)間隔而積層的多片片材（158a～158c）。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述片材（158a～158c）的至少下端部切斷成短條狀。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

該X射線處理裝置進(jìn)而包括X射線屏蔽部件（158a～158c），積層在所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）進(jìn)而包括支撐機(jī)構(gòu)（160、161），在所述搬送路（11b）的左右方向上可移動(dòng)地支撐。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線處理裝置，其特征在于：

所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）進(jìn)而包括移動(dòng)支撐機(jī)構(gòu)（153），在所述搬送路（11b）的上下方向上可移動(dòng)地支撐。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X射線處理裝置，其特征在于：

該X射線處理裝置包括控制機(jī)構(gòu)（17），當(dāng)將所述被處理體（101）配置在指定位置時(shí)，使所述按壓機(jī)構(gòu)（15R、15L）下降而接近所述被處理體（101），其后使所述X射線處理機(jī)構(gòu)（12R、12L）照射X射線。

11.一種X射線處理方法，其特征在于包括如下步驟：

通過(guò)搬入口（22）將被處理體（101）搬送至照射X射線的處理區(qū)域（11a）；

壓扁殘存在所述被處理體（101）的邊部的毛邊部（102）；及

在與所述搬入口（22）隔開(kāi)的位置、且搬送中的所述被處理體（101）的毛邊部（102）通過(guò)的位置上屏蔽X射線。