[發明專利]一種控制電解槽電壓偏離的方法

在審

• 申請號: 201310256662.0
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN103397347A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 黃衛平;周虹;祝可武;毛永慶;田元歡;楊得生;任清華;楊生良;莫政榮;馬祥林
• 申請（專利權）人: 中國鋁業股份有限公司
• 主分類號: C25C3/20
• 分類號: C25C3/20
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 段俊濤

1.一種控制電解槽電壓偏離的方法，其特征在于，包括如下內容：

（1）控制電解槽中NaF/AlF₃的分子比為2.45～2.55，氧化鋁質量濃度控制在1.5～2.5%，氟化鎂質量濃度控制在1.8～2.0%；

（2）降低電解槽各部壓降；

（3）鞏固槽膛內型，減小水平電流，減少振擺槽出現幾率；

（4）降低電解質壓降；

（5）減少效應均攤電壓。

2.根據權利要求1所述的控制電解槽電壓偏離的方法，其特征在于，所述降低電解槽各部壓降包括如下內容：

（1）通過母線擦灰及陽極導桿定期打磨措施將每臺電解槽內的每塊陽極卡具和墊板壓降都降低3～5mv；

（2）使陽極始終處理保溫料包圍中。

3.根據權利要求1所述的控制電解槽電壓偏離的方法，其特征在于，所述降低電解質壓降包括如下內容：

（1）通過溫控裝置維持槽溫恒定在所需范圍；

（2）當電解質中炭粒質量濃度大于0.6%時，將其打撈，并加入冰晶石維持槽溫恒定在所需范圍。

4.根據權利要求1所述的控制電解槽電壓偏離的方法，其特征在于，所述減少效應均攤電壓包括如下內容：

（1）在所述鋁電解槽的進料孔中埋設電磁線圈，以實施監控鋁電解槽在下料狀態時的下料量，保證下料順暢；

（2）提高效應熄滅質量，控制效應時間在3分鐘內，效應平均電壓不超過25V。

5.根據權利要求1所述的控制電解槽電壓偏離的方法，其特征在于，所述鞏固槽膛內型，減小水平電流，減少振擺槽出現幾率通過如下方式實現：

建立高分子比的堅固爐幫，即爐幫物質的分子比較槽內電解質的分子比高出0.2，并保持過熱度在8-12℃之間。