[發(fā)明專利]一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310255872.8
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN103309540A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃小衛(wèi);柳祝平
• 申請（專利權(quán)）人: 元亮科技有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所 32104
• 代理人: 殷紅梅

1.一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，包括基板（1），基板（1）上連接導(dǎo)電層（2），導(dǎo)電層（2）四個(gè)側(cè)邊角連接電極（3），其特征是：還包括類金剛石膜層（4），導(dǎo)電層（2）外側(cè)表面上連接類金剛石膜層（4）。

2.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，其特征是：所述基板（1）采用玻璃材料制作。

3.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，其特征是：所述導(dǎo)電層（2）為一層或兩層。

4.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，其特征是：所述導(dǎo)電層（2）為ITO層。

5.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，其特征是：所述導(dǎo)電層（2）的厚度為50~160nm。

6.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏，其特征是：所述類金剛石膜層（4）的厚度為5~200nm。

7.如權(quán)利要求1所述的一種類金剛石鍍膜電容觸摸屏的制備方法，其特征是包括如下步驟：

（1）制作基板：將玻璃基片用真空鍍膜前超聲波清洗設(shè)備經(jīng)超聲波堿洗、純水漂洗、超聲波純水漂洗等工序清洗，然后在100~200℃下熱空氣干燥得到制作好的基板（1）；

（2）電鍍導(dǎo)電層：在一真空室中通入水蒸汽，將制作好的基板（1）放入真空室中并通入氬氧混合氣體，然后在基板上電鍍導(dǎo)電層（2）；電鍍導(dǎo)電層（2）采用兩個(gè)氧化銦錫陶瓷作為靶，氧化銦錫陶瓷中In₂O₃與SnO₂的重量比為90:10；電鍍導(dǎo)電層（2）時(shí)真空室溫度為100~200℃，真空度為4.0×10^-1Pa~4.5×10^-1Pa；氬氧混合氣體中氧氣的體積比占2~5%，氬氣流量為200sccm?~220?sccm，氧氣流量為40~110sccm；在導(dǎo)電層（2）四個(gè)側(cè)邊角連接電極（3）；

（3）電鍍類金剛石膜層：在真空室中通入甲烷，在完成電鍍導(dǎo)電層的基板（1）上的導(dǎo)電層外側(cè)表面電鍍類金剛石膜層（4）；電鍍類金剛石膜層（4）鍍膜時(shí)采用石墨作為靶材；鍍膜時(shí)真空室溫度為100~150℃，真空度為10?Pa~30?Pa；甲烷氣體流量為20sccm~50sccm。