[發(fā)明專利]形狀分析方法和形狀分析程序

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310254403.4
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN103530104A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 清水雅史;齋藤洋一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社三豐
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邸萬奎

1.一種用于分析通過測量待測量工件的輪廓形狀而獲取的形狀數(shù)據(jù)的形狀分析方法，包括：

決定形狀分析中使用的幾何元素；

決定要被包括在評估范圍中的一個數(shù)據(jù)點(diǎn)；

向包括所述一個數(shù)據(jù)點(diǎn)的區(qū)間應(yīng)用所述幾何元素；

在改變所述區(qū)間的寬度的同時(shí)搜索用于滿足預(yù)設(shè)形狀公差的閾值條件的最寬區(qū)間；

查明將通過所述搜索而找到的區(qū)間夾在中間的兩個邊界點(diǎn)；

獲得所述兩個邊界點(diǎn)分別偏移了預(yù)設(shè)偏移量的兩個邊緣點(diǎn)；

將夾在所述邊緣點(diǎn)之間的范圍設(shè)置為所述評估范圍；以及

將所述評估范圍內(nèi)的形狀數(shù)據(jù)作為對象，用于幾何性質(zhì)的計(jì)算。

2.如權(quán)利要求1所述的形狀分析方法，其中：

在形狀分析中使用的幾何元素是圓或線；

為所述圓設(shè)置圓度閾值作為所述形狀公差；以及

為所述線設(shè)置平直度閾值作為所述形狀公差。

3.如權(quán)利要求1或2所述的形狀分析方法，其中

用戶觸摸觸摸面板顯示部分上顯示的形狀數(shù)據(jù)的一個點(diǎn)，并由此指定要被包括在所述評估范圍中的一個數(shù)據(jù)點(diǎn)。

4.如權(quán)利要求1或2所述的形狀分析方法，其中：

所述評估范圍是從具有x方向上的寬度的x方向范圍、具有z方向上的寬度的z方向范圍、具有x方向和z方向上的寬度的矩形范圍、以及具有沿著數(shù)據(jù)串的布置方向的寬度的數(shù)據(jù)串方向范圍之中選擇的任意一個；以及

由用戶預(yù)設(shè)選擇的優(yōu)先級。

5.如權(quán)利要求1或2所述的形狀分析方法，其中

將所述偏移量設(shè)置為長度尺寸、或區(qū)間與長度的比例。

6.一種形狀分析方法，用于在獲得評估范圍內(nèi)的頂點(diǎn)或底點(diǎn)的情況下分析通過測量待測量工件的輪廓形狀而獲取的形狀數(shù)據(jù)，所述形狀分析方法包括：

決定要被包括在所述評估范圍中的一個數(shù)據(jù)點(diǎn)；

對于包括所述一個數(shù)據(jù)點(diǎn)的區(qū)間計(jì)算每個點(diǎn)處的導(dǎo)數(shù)；

在改變所述區(qū)間的寬度的同時(shí)搜索夾在拐點(diǎn)之間的區(qū)間；

查明將通過所述搜索而找到的區(qū)間夾在中間的兩個邊界點(diǎn)；

獲得所述兩個邊界點(diǎn)分別偏移了預(yù)設(shè)偏移量的兩個邊緣點(diǎn)；

將夾在所述邊緣點(diǎn)之間的范圍設(shè)置為所述評估范圍；以及

將所述評估范圍內(nèi)的形狀數(shù)據(jù)作為對象，并計(jì)算所述頂點(diǎn)或所述底點(diǎn)。

7.一種計(jì)算機(jī)存儲介質(zhì)，其上存儲有形狀分析程序，其特征在于，所述形狀分析程序被計(jì)算機(jī)執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的形狀分析方法的步驟。