[發明專利]半無機化隔熱透波涂層材料的制備方法無效
| 申請號: | 201310253219.8 | 申請日: | 2013-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN103396738A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | 敖遼輝;曹峰 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十研究所 |
| 主分類號: | C09D183/16 | 分類號: | C09D183/16;C09D7/12;C09D5/00;B05D3/00 |
| 代理公司: | 成飛(集團)公司專利中心 51121 | 代理人: | 郭純武 |
| 地址: | 610036 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 機化 隔熱 涂層 材料 制備 方法 | ||
1.一種半無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
以極低碳陶瓷先驅體為基料,配以各種隔熱填料以及各種溶劑及助劑,按重量計,在100份不含C-H基團或極低C-H基團含量的極低陶瓷先驅體中,加入10~50份石英粉、空心玻璃粉、二氧化硅氣凝膠粉體中的一種或幾種組成的隔熱填料,同時加入1~10份硅烷偶聯劑和10~100份芳烴類溶劑,調節粘度,在高速攪拌分散后,得到填料分布均勻,含有Si-H、N-H活性基團的先驅體聚合物漿料。
2.根據權利要求1所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:所述的極低碳陶瓷先驅體主要包括:聚硅氮烷、聚硼硅氮烷。
3.根據權利要求2所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:所述聚硅氮烷是具有硅原子與氮原子交替鍵合分子鏈的一類聚合物,它是主鏈上硅原子和氮原子相間成鍵的聚合物,其分子結構為:
4.根據權利要求1所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:所述的硅烷偶聯劑主要包括:氨基硅烷、苯乙烯基氨基官能團硅烷或乙烯基硅烷。
5.根據權利要求1所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:所述隔熱填料為石英粉、空心玻璃粉、二氧化硅氣凝膠粉體,其氣孔率在90%以上。
6.根據權利要求1所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:基底材料包括,聚酰亞胺基復合材料、氧化鋁陶瓷、微晶玻璃、石英陶瓷及氮化物陶瓷等透波材料或者銅、鋁天線用金屬材料。
7.根據權利要求1所述的無機化隔熱透波涂層材料的制備方法,其特征在于:所述惰性氣體為氦氣、氬氣。
8.一種使用權利要求1所述半無機化隔熱透波材料對基材表面進行涂層的方法,其特征在于包括如下步驟:首先,對工件基底材料表面進行預處理,得到清潔、干燥、平整的工件表面,然后通過涂、刷、噴,浸漬處理基材表面,將上述先驅體聚合物漿料涂覆在處理過的基底材料表面;再將上述帶有涂層的工件,在100℃~200℃下,干燥處理1~2小時,除去涂層漿料中的溶劑,使自身含有機活性基團聚硅氮烷或聚硼硅氮烷先驅體自行交聯成型;然后在氮氣、氨氣或者惰性氣體保護下,將上述交聯反應后的帶基底材料工件放在管式爐中,用300℃~500℃的爐溫,進行半無機化處理1~5小時,然后自然降溫,得到在基底材料表面上的半無機化涂層。
9.如權利要求8所述的對基材表面進行涂層的方法,其特征在于,所述的“半無機化處理”是用高于先驅體交聯固化溫度100℃~200℃,低于先驅體裂解溫度800℃~1700℃的溫度條件,對所述先驅體聚合物經過較低溫度300℃~500℃的裂解過程,形成一種半有機、半無機狀態,具有陶瓷特征的裂解產物。
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C09D 涂料組合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充漿料;化學涂料或油墨的去除劑;油墨;改正液;木材著色劑;用于著色或印刷的漿料或固體;原料為此的應用
C09D183-00 基于由只在主鏈中形成含硅的、有或沒有硫、氮、氧或碳鍵反應得到的高分子化合物的涂料組合物;基于此種聚合物衍生物的涂料組合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷鏈區的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少兩個,但不是所有的硅原子與氧以外的原子連接
C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





