[發明專利]一種掩膜板及其制造方法

有效

• 申請號: 201310250635.2
• 申請日: 2013-06-21
• 公開（公告）號: CN103938154B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: 葉添昇
• 申請（專利權）人: 廈門天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司11332
• 代理人: 孟金喆

技術領域

本發明涉及顯示工藝技術領域，特別涉及一種掩膜板及其制造方法。

背景技術

有機發光顯示器（OLED），由于其具有寬視角、高對比度以及高響應速度等優點，得到了越來越多的關注。有機電致發光裝置一般包括第一電極、有機發光層及第二電極。目前OLED制造工藝中，主要采用蝕刻法，即采用蒸鍍工藝將有機發光材料沉積在基板上，形成有機發光層，該方法需要配套高分辨率掩膜板。為了降低制造成本，薄型掩膜板為較好的選擇。為了實現高分辨率，提高控制精度，需要在掩膜板上制作小尺寸的開口。然而，蝕刻法具有以下缺陷：1.薄型掩膜板由于板材較薄，不容易精確地控制開口尺寸和開口位置，難以得到小尺寸開口；2.薄型掩膜板不易制作且成本高，使用的壽命也相對較短。

發明內容

有鑒于此，本發明提供了一種掩膜板及其制造方法，其有效避免了由于現有技術的限制和缺陷導致的一個或更多的問題。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案之一為：

一種掩膜板，包括：至少一層支撐基板，其中支撐基板設有多個開口；至少一層定位層，設置在所述支撐基板上，其中所述定位層設有對應所述支撐基板開口的貫穿開口，并與所述支撐基板開口連通；所述支撐基板開口截面的寬度尺寸與所述定位層的貫穿開口截面的寬度尺寸沿支撐基板一側到定位層一側的方向上分別逐漸遞減。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案之二為：

提供支撐基板，所述支撐基板具有兩個相對的第一表面與第二表面；在所述支撐基板的第一表面形成光阻；在所述光阻上形成貫穿開口，以形成定位層；刻蝕所述支撐基板的第二表面形成與所述定位層開口對應的貫穿開口。

本發明提供了一種掩膜板及其制造方法。所述掩膜板包括支撐基板和定位層。支撐基板用于支撐定位層，并增強掩膜板張網時的強度，以提高掩膜板使用壽命。

另外，由于定位層設于支撐單元之上，該結構設計的掩膜板，只需增加一層膜厚，就能以更高的精度定義開孔尺寸、位置和開口角度，提高掩膜板的分辨率，因此在蒸鍍時可以形成小尺寸的有機材料圖型，提高了掩膜板的蒸鍍精度。

附圖說明

圖1為本發明第一實施例中掩膜板的俯視圖。

圖2為圖1中沿L1-L1線的剖面示意圖。

圖3為圖1中掩膜板制造方法的流程示意圖。

圖4（a）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖4（b）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖4（c）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖4（d）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖4（e）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖4（f）為圖1中掩膜板制造方法的示意圖。

圖5為本發明第二實施例中掩膜板的局部剖面示意圖。

圖6為本發明第三實施例中掩膜板的俯視圖。

圖7為圖6中沿L2-L2線的剖面示意圖。

圖8為本發明第四實施例中掩膜板的局部剖面示意圖。

附圖標記說明：

掩膜板-100、100a；支撐基板-10、10a；支撐基板開口-12、12a；支撐基板實體部分-14、14a；支撐基板第一表面-A；支撐基板第二表面-B；定位層-20、20a；定位層貫穿開口-22、22’、22a、22a’；定位層實體部分-24、24’、24a、24a’；第一表面面光阻-30；光刻膠層-40；光柵-42；步驟-S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7；滾輪刷-R；光罩-M1、M2；顯影裝置-D；蝕刻裝置-E；蝕刻線-e；高度差-H。

具體實施方式

本發明第一實施例所揭示的掩膜板100及其制造方法，請參考圖1至圖4（f）。

結合圖1和圖2所示，圖1繪示了掩膜板100的整體結構。由于視圖角度，圖1中主要示出了定位層20。圖2繪示了圖1中沿L1-L1線的掩膜板100的剖視圖，為掩膜板100的部分剖面結構示意圖。

掩膜板100包括支撐基板10和定位層20。支撐基板10是因瓦合金（Invar，鎳鐵合金）層，厚度范圍是30～60μm，優選的厚度為40μm。支撐基板10端面上設有多個開口12，支撐基板10上未設開口12的區域為實體部分14。開口12在截面上呈弧形。請參考圖2，所述截面定義為沿著支撐基板10的頂面到底面的方向所剖示的圖。