[發(fā)明專利]一種用于實現(xiàn)動態(tài)磁場加工的研磨裝置及其研磨方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310239864.4
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN103331693A
• 公開（公告）日: 2013-10-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李長坤;吳波;茍利軍;李士盈;鄭定洋;賈衍俊;李杰;何暢;胡世艷
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢理工大學(xué)泰州高技術(shù)產(chǎn)業(yè)研究院
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/27;B24B37/11
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 顧伯興

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及到一種用于實現(xiàn)動態(tài)磁場加工的研磨裝置及其研磨方法。

背景技術(shù)

在目前的磁力研磨加工領(lǐng)域中，大多采用的是靜態(tài)磁場對工件表面進(jìn)行研磨加工，由一系列交替排列的永磁體提供加工區(qū)域的磁場，但永磁體相對于旋轉(zhuǎn)中心是不存在偏心距的，即加工過程中對于工件表面某處的磁場是不發(fā)生改變的。而若采用動態(tài)磁場研磨可以實現(xiàn)磁性粒子和磨粒在工件表面雜亂無章的運(yùn)動，進(jìn)而可以有效避免重復(fù)軌跡的出現(xiàn)，提高研磨的加工效率和研磨效果的均勻性。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)動態(tài)磁場加工的研磨裝置及其研磨方法。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種用于動態(tài)磁場加工的研磨裝置，包括工作臺和研磨頭，所述研磨頭由研磨夾具和夾板組成，所述夾板內(nèi)設(shè)有永磁體，所述研磨夾具設(shè)有滑槽，所述夾板設(shè)于滑槽內(nèi)并呈活動連接狀態(tài)。

基于上述研磨裝置的設(shè)計，采取相應(yīng)的研磨方法如下：

1）、研磨裝置的設(shè)計：研磨頭采用偏心式的設(shè)計，可以通過調(diào)整永磁體的偏心距實現(xiàn)磁場的動態(tài)變化，同時可以通過改變裝夾的永磁體的規(guī)格實現(xiàn)磁場強(qiáng)度的調(diào)整；

2）、研磨軌跡的設(shè)計：根據(jù)Peano曲線的思想，通過PLC控制實現(xiàn)工作臺的運(yùn)動軌跡的變化，以達(dá)到研磨效果的均勻性。

采用上述結(jié)構(gòu)和方法，其有益效果在于：利用研磨裝置的設(shè)計和研磨軌跡的控制共同實現(xiàn)動態(tài)磁場研磨，研磨夾具采用偏心式的設(shè)計，可以通過調(diào)整夾板的偏心距實現(xiàn)磁場的動態(tài)變化，同時可以通過改變裝夾的永磁體的規(guī)格實現(xiàn)磁場強(qiáng)度的調(diào)整，研磨軌跡的控制策略采用Peano曲線的思想，以達(dá)到研磨效果的均勻性，同時可以實現(xiàn)研磨加工過程中磁場的動態(tài)變化。

附圖說明

圖1為本發(fā)明研磨裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明研磨裝置的研磨頭的立體圖；

圖3為本發(fā)明研磨方法的研磨軌跡示意圖。

圖中：1-工作臺、2-研磨頭、3-研磨夾具、4-夾板、5-永磁體、6-滑槽。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

如圖1和2所示，一種用于動態(tài)磁場加工的研磨裝置，包括工作臺1和研磨頭2，所述研磨頭2由研磨夾具3和夾板4組成，所述夾板4內(nèi)設(shè)有永磁體5，所述研磨夾具3設(shè)有滑槽6，所述夾板4設(shè)于滑槽6內(nèi)并呈活動連接狀態(tài)，該研磨裝置的研磨頭2采用偏心式的設(shè)計，可以通過調(diào)整永磁體5的偏心距實現(xiàn)磁場的動態(tài)變化，同時可以通過改變裝夾的永磁體5的規(guī)格實現(xiàn)磁場強(qiáng)度的調(diào)整；如圖3所示，研磨軌跡的控制策略采用Peano曲線的思想，以達(dá)到研磨效果的均勻性，同時可以實現(xiàn)研磨加工過程中磁場的動態(tài)變化。