[發(fā)明專利]圓形托盤上的排布襯底收容槽的方法及圓形托盤無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310225201.7 | 申請日: | 2013-06-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103305814A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林翔 | 申請(專利權(quán))人: | 光壘光電科技(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/458 | 分類號(hào): | C23C16/458 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 楊林;李友佳 |
| 地址: | 200050 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圓形 托盤 排布 襯底 收容 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域。更具體地講,是涉及一種圓形托盤上的排布襯底收容槽的方法及圓形托盤。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,化學(xué)氣相沉積設(shè)備中的大尺寸的圓形托盤(通常為石墨盤并且直徑≥30mm)上排布有若干個(gè)襯底收容槽,每個(gè)襯底收容槽上放置一個(gè)襯底。為了使得排布于圓形托盤上的襯底收容槽排布最緊密,襯底收容槽的排布方式為蜂窩狀排布。然而,這樣的襯底收容槽的排布方式,在圓形托盤邊緣區(qū)域的襯底收容槽的排布非常不均勻,例如在圓形托盤的邊緣區(qū)域,一些區(qū)域設(shè)置有襯底收容槽,而另外一些區(qū)域沒有設(shè)置襯底收容槽,導(dǎo)致襯底收容槽在一些區(qū)域密集,而在另外一些區(qū)域比較稀疏。
由于在圓形托盤的邊緣區(qū)域的溫度對環(huán)境條件的敏感度要比在圓形托盤的圓心區(qū)域高的多,因此,當(dāng)圓形托盤的邊緣區(qū)域的襯底收容槽排布不均勻時(shí),圓形托盤的邊緣區(qū)域的溫度的均勻性將會(huì)受到極大的影響,不利于沉積材料在襯底上的沉積。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種圓形托盤上的排布襯底收容槽的方法,用以將若干個(gè)襯底收容槽排布于圓形托盤之上,所述排布襯底收容槽的方法包括:在圓形托盤的邊緣排布外圈的襯底收容槽;使得該外圈的襯底收容槽的中心處于圓形托盤的同心圓周上并在該同心圓周上均勻分布,而且該外圈的襯底收容槽中的兩相鄰襯底收容槽之間的間距小于該外圈的襯底收容槽中的任一襯底收容槽的直徑;在所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)排布襯底收容槽。
進(jìn)一步地,在所述外圈的襯底收容槽中,兩相鄰襯底收容槽之間的間距小于該外圈的襯底收容槽中的任一襯底收容槽的直徑的1/10。
進(jìn)一步地,在所述外圈的襯底收容槽與所述圓形托盤的邊緣之間的區(qū)域不足以設(shè)置襯底收容槽。
進(jìn)一步地,在所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)排布襯底收容槽包括:在所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)以蜂窩狀形式排布襯底收容槽。
進(jìn)一步地,在所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)排布襯底收容槽包括:在所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)將襯底收容槽分為若干內(nèi)圈的襯底收容槽,其中,每一內(nèi)圈的襯底收容槽的中心在圓形托盤的同心圓周上均勻分布。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽的直徑小于所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)的襯底收容槽的直徑。
本發(fā)明的另一目的還在于提供一種圓形托盤,該圓形托盤上排布有若干個(gè)襯底收容槽,每個(gè)襯底收容槽上可設(shè)有一個(gè)襯底,所述圓形托盤的邊緣排布有外圈的襯底收容槽,所述外圈的襯底收容槽的中心處于圓形托盤的同心圓周上并在該同心圓周上均勻分布,而且該外圈的襯底收容槽中的兩相鄰襯底收容槽之間的間距小于該外圈的襯底收容槽中的任一襯底收容槽的直徑。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽中的兩相鄰襯底收容槽之間的間距小于該外圈的襯底收容槽中的任一襯底收容槽的直徑的1/10。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽與所述圓形托盤的邊緣之間的區(qū)域不足以設(shè)置襯底收容槽。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)的襯底收容槽呈蜂窩狀排布。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)的襯底收容槽排列成為若干內(nèi)圈的襯底收容槽,其中,每一內(nèi)圈的襯底收容槽的中心在圓形托盤的同心圓周上均勻分布。并且,當(dāng)距離圓形托盤圓心最近的內(nèi)圈的襯底收容槽以內(nèi)的區(qū)域只能排布一個(gè)襯底收容槽時(shí),可不排布襯底收容槽。
進(jìn)一步地,所述外圈的襯底收容槽的直徑小于所述外圈的襯底收容槽以內(nèi)的襯底收容槽的直徑。
本發(fā)明的圓形托盤上的排布襯底收容槽的方法及圓形托盤,圓形托盤的邊緣的襯底收容槽排布均勻,使得在加熱過程中,圓形托盤的邊緣的襯底收容槽的受熱均勻性得到提高,進(jìn)而使得圓形托盤整體受熱均勻性得到提高。另外,由于在進(jìn)行化學(xué)氣相沉積工藝時(shí),旋轉(zhuǎn)的圓形托盤的圓心處的氣流場不均勻,將會(huì)使得置于襯底收容槽的襯底沉積材料不均勻,容易形成次品,因此在圓形托盤的中心不排布襯底收容槽,避免浪費(fèi)襯底。
附圖說明
圖1為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1的排布有襯底收容槽的圓形托盤的示意圖。
圖2為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例2的排布有襯底收容槽的圓形托盤的示意圖。
圖3為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例3的排布有襯底收容槽的圓形托盤的示意圖。
圖4為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例4的排布有襯底收容槽的圓形托盤的示意圖。
具體實(shí)施方式
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C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





