[發明專利]設計規則檢查文件的自動化產生方法及產生器有效
| 申請號: | 201310217817.X | 申請日: | 2013-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN103279354B | 公開(公告)日: | 2016-11-02 |
| 發明(設計)人: | 童慶強 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G06F9/44 | 分類號: | G06F9/44 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陸花 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設計 規則 檢查 文件 自動化 產生 方法 產生器 | ||
技術領域
本發明涉及設計規則檢查文件的開發,特別涉及一種設計規則檢查文件的自動化產生方法及產生器。
背景技術
DRC(design?rule?check設計規則檢查)文件是半導體設計生產中不可或缺的文件,一直以來手動開發DRC文件的效率低下,花費時間較長,工程師之間編輯風格不一致,特別是對于65nm以及更先進制程,由于金屬層數增多,需要編輯大量重復的DRC代碼,不僅時間花費多,還容易產生錯誤,工程師壓力較大。
發明內容
本發明的目的在于提供一種設計規則檢查文件的自動化產生方法及產生器,能夠使工程師編寫設計規則檢查文件更加自動化,減輕工程師的工作量,縮短設計規則檢查文件的開發周期,提高設計規則檢查文件的編輯效率,減少錯誤的發生。
為解決上述問題,本發明提供一種設計規則檢查文件的自動化產生方法,包括:
將基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的同一種設計規則檢查代碼寫入一可重復調用的宏中;
將基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的兩種以上設計規則檢查代碼寫入一可重復調用的條件選擇檢查文檔中;
將需要重復使用的不同設計工藝的兩種以上設計規則檢查代碼寫入一可重復調用的工藝類別選擇檢查文檔中;
將半導體的每個工藝層次的所有設計規則檢查代碼分別匯總寫入每個工藝層次各自的可重復調用的工藝層次匯總檢查文檔中;
根據檢查要求生成設計規則檢查文件,所述檢查文件包括所述可重復調用的宏、條件選擇檢查文檔、工藝類別選擇檢查文檔和工藝層次匯總檢查文檔中的一種或任意組合。
進一步的,在上述方法中,所述可重復調用的宏獲取兩個變量值,所述變量值分別為工藝層次的編號和對應的工藝檢查參數值。
進一步的,在上述方法中,將的基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的同一種設計規則檢查代碼寫入一可重復調用的宏中的步驟中,
所述可重復調用的宏通過一循環調用文檔獲取所述工藝層次的編號,所述循環調用文檔包括工藝層次的起始編號、終止編號和編號間隔數的三個變量。
根據本發明的另一面,提供一種設計規則檢查文件的自動化產生器,包括:
可重復調用的宏模塊,用于執行基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的同一種設計規則檢查代碼;
可重復調用的條件選擇檢查模塊,用于執行基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的兩種以上設計規則檢查代碼;
可重復調用的工藝類別選擇檢查模塊,用于執行要重復使用的不同設計工藝的兩種以上設計規則檢查代碼;
可重復調用的工藝層次匯總檢查模塊,用于分別執行半導體的某個工藝層次的所有設計規則檢查代碼;
產生模塊,用于根據檢查要求生成設計規則檢查文件,所述生成設計規則檢查文件調用所述可重復調用的宏模塊、條件選擇檢查模塊、工藝類別選擇檢查模塊和工藝層次匯總檢查模塊中的一種或任意組合。
進一步的,在上述系統中,所述可重復調用的宏模塊獲取兩個變量值,所述變量值分別為工藝層次的編號和對應的工藝檢查參數值。
進一步的,在上述系統中,所述可重復調用的宏模塊通過一循環調用模塊獲取所述工藝層次的編號,所述循環調用模塊包括三個變量值,所述變量值分別為工藝層次的起始編號、終止編號和編號間隔數。
與現有技術相比,本發明通過總結設計規則檢查文件在形式上的共性,建立可重復調用的宏、條件選擇檢查文檔、工藝類別選擇檢查文檔和工藝層次匯總檢查文檔,方便工程師在編寫設計規則檢查文件時進行重復調用,使工程師編寫設計規則檢查文件更加自動化,減輕工程師的工作量,從而減少人力資源,縮短設計規則檢查文件的開發周期,提高設計規則檢查文件的編輯效率,減少錯誤的發生。
附圖說明
圖1是本發明一實施例的設計規則檢查文件的自動化產生方法的流程圖;
圖2是本發明一實施例的設計規則檢查文件的自動化產生器功能模塊示意圖。
具體實施方式
為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂,下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
實施例一
如圖1所示,本發明提供一種設計規則檢查文件的自動化產生方法,包括步驟S1~步驟S5。
步驟S1,將基于同一設計工藝且需要重復使用的半導體的不同設計工藝層次的同一種設計規則檢查代碼寫入一可重復調用的宏中。
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