[發明專利]清潔基板的設備和方法

有效

• 申請號: 201310215581.6
• 申請日: 2013-05-31
• 公開（公告）號: CN103447256A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 李龍熙;李福圭;崔從洙
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/10
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及一種制造半導體基板的設備和方法，尤其涉及一種清潔基板的設備和方法。

背景技術

一般而言，半導體裝置通過多種工藝制造，比如用于硅片之類基板的光照工藝、蝕刻工藝、離子注入工藝和沉積工藝。

接著執行清潔工藝以移除執行各個工藝時附在基板上的各種污染物。該清潔工藝包括：化學處理工藝，用化學品移除基板上的污染物；濕法清潔工藝，用純水移除基板上的殘留化學品；干燥工藝，通過提供干燥流體干燥基板表面殘留的純水。

典型地，干燥工藝是通過給基板提供加熱的氮氣來執行，該基板上殘留有純水。然而，隨著基板上形成的條線的寬度變得越來越窄，縱橫比變得越來越大，要移除圖案之間的純水是很困難的。為此，近來，基板上的純水被異丙醇之類具有高揮發性和低表面張力的液體有機溶劑所代替，接著就用加熱的氮氣干燥基板。

然而，因為很難將非極性有機溶劑與極性純水混合，所以必須長時間提供大量的有機溶劑來使液體有機溶劑代替純水。

發明內容

本發明提供一種清潔基板的設備和方法，所述設備和方法能夠提高干燥基板的效率。

本發明還提供一種清潔基板的設備和方法，能夠通過使液體有機溶劑和純水之間易于替換來節約液體有機溶劑。

本發明的實施例提供一種清潔基板的設備和方法，所述設備包括：基板支撐單元，用于支撐基板；容器，其環繞所述基板支撐單元，且從所述基板收集灑出的有機溶劑；流體供應單元，其設在所述容器的一側并向所述基板上噴灑帶氣泡的液體有機溶劑。所述流體供應單元包括：噴嘴頭，其將所述有機溶劑噴灑到所述基板上；有機溶劑供應線，其從有機溶劑貯槽向所述噴嘴頭提供所述有機溶劑；氣泡供應元件，其設在所述有機溶劑供應線上并向所述液體有機溶劑提供氣泡。

在一些實施例中，所述氣泡供應元件可包括：加熱器，其設在所述有機溶劑供應線上，加熱所述液體有機溶劑；控制器，其控制所述加熱器的溫度。所述控制器可控制所述加熱器將所述液體有機溶劑加熱到沸點或高于沸點的溫度。

在其他實施例中，所述流體供應單元可進一步包括：迂回線，其設在所述有機溶劑供應線上，圍著所述加熱器進行迂回。

在另一些實施例中，異丙醇可用作所述有機溶劑，所述控制器可控制所述加熱器來將所述異丙醇加熱到80℃到100℃范圍內的溫度。

在另一些實施例中，所述氣泡供應元件可包括：超聲波施加器，其向所述液體有機溶劑提供超聲波，所述液體有機溶劑流過所述有機溶劑供應線。

在另一些實施例中，所述超聲波施加器可包括：振動裝置，其設在所述有機溶劑供應線上；發生器，其將所述超聲波提供給所述振動裝置。

在另一些實施例中，所述超聲波施加器可進一步包括：氣泡量測量儀，其設在所述振動裝置和所述噴嘴頭之間，測量所述液體有機溶劑中包含的氣泡的量；控制器，其控制供應給所述振動裝置的所述超聲波的頻率。

在又一些實施例中，所述振動裝置可包括：本體，其與所述有機溶劑供應線接觸并環繞著所述有機溶劑供應線；振動器，其設在所述本體中，接受所述超聲波并將所述接收到的超聲波施加到所述有機溶劑供應線上。

在另一些實施例中，所述超聲波施加器可包括：裝滿流體介質的容器；振動器，其向所述容器中的所述流體介質施加振動；發生器，其向所述振動器提供超聲波。所述有機溶劑供應線的一部分可浸在所述容器內的所述流體介質中。

在又一些實施例中，所述氣泡供應元件可包括：與所述有機溶劑供應線連接的防滲膜，所述液體有機溶劑在所述有機溶劑供應線中流動，所述防滲膜形成有氣孔；環繞所述防滲膜的殼體；氣體供應線，其向所述防滲膜和所述殼體之間的空間提供氣體。提供到所述空間的所述氣體可通過所述氣孔注入所述防滲膜中，從而向所述液體有機溶劑提供氣泡。

在另一些實施例中，所述氣泡供應元件可進一步包括：氣泡量測量儀，其測量所述液體有機溶劑中包含的氣泡的量；流量控制閥，其安裝在所述氣體供應線上，控制提供給所述空間的所述氣體量；控制器，其根據氣泡量測量儀測量的結果控制所述流量控制閥。

在又一些實施例中，所述流體供應單元可進一步包括：循環管線，其從所述有機溶劑供應線上分支并與所述有機溶劑貯槽連接，將所述液體有機溶劑傳輸到所述有機溶劑貯槽。

在另一些實施例中，所述氣泡供應元件可設在所述循環管線的分支點和所述噴嘴頭之間的所述有機溶劑供應線上。