[發明專利]一種腔內倍頻微片激光器及其制備方法

無效

• 申請號: 201310213057.5
• 申請日: 2013-05-31
• 公開（公告）號: CN103311787A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 陳建林
• 申請（專利權）人: 福建華科光電有限公司
• 主分類號: H01S3/08
• 分類號: H01S3/08;H01S3/02
• 代理公司: 福州市鼓樓區京華專利事務所(普通合伙) 35212
• 代理人: 宋連梅

1.一種腔內倍頻微片激光器，包括按通光方向上依次排列半導體泵浦激光器、耦合透鏡、激光晶體及倍頻晶體，所述激光晶體前端面鍍制基頻光及倍頻光的高反射率的薄膜，作為激光腔前腔鏡，所述倍頻晶體后端面鍍制對基頻光高反射率，對倍頻光高透過率的薄膜，作為激光腔的后腔鏡，其特征在于：所述激光晶體的后端面和倍頻晶體的前端面鍍制對基頻光的增透膜，所述激光晶體和倍頻晶體之間且位于通光口徑外的兩側區域分別設有一根去除涂覆層后的裸纖，該兩裸纖將激光晶體及倍頻晶體兩平面等間距隔離開，從而使激光晶體與倍頻晶體形成分立的平平腔結構。

2.根據權利要求1所述的一種腔內倍頻微片激光器，其特征在于：所述激光晶體與倍頻晶體的四個側面分別用膠粘有加固用的載波片。

3.根據權利要求1或2所述的一種腔內倍頻微片激光器，其特征在于：所述兩裸纖是從同一根光纖相鄰位置截下的。

4.一種腔內倍頻微片激光器的制備方法，其特征在于：包括

步驟10、將激光晶體與倍頻晶體加工成高精度平行平片；

步驟20、在激光晶體前端面鍍制基頻光及倍頻光的高反射率的薄膜，作為激光腔前腔鏡，在倍頻晶體后端面鍍制對基頻光高反射率，對倍頻光高透過率的薄膜，作為激光腔的后腔鏡；

步驟30、將所述激光晶體的后端面和倍頻晶體的前端面鍍制對基頻光的增透膜；

步驟40、將激光晶體及倍頻晶體鍍對基頻光增透膜的一面相向放置，并在通光口徑外的兩側區域用兩根裸纖作為空間隔離體，將激光晶體及倍頻晶體兩平面等間距隔離開，從而使激光晶體與倍頻晶體形成分立的平平腔結構；

其中，所述步驟20和步驟30不分先后順序。

5.根據權利要求4所述的一種腔內倍頻微片激光器的制備方法，其特征在于：所述步驟40具體是：將兩根去除涂覆層的裸纖長條，粘上紫外膠，平行放置于激光晶體上表面，并往兩側邊靠齊；再將倍頻晶體放置于裸纖上，使鍍增透薄膜的一面對著激光晶體，加壓，使激光晶體、倍頻晶體分別與兩根裸纖保持緊密接觸狀態；再用紫外燈固化，從而使激光晶體與倍頻晶體形成分立的平平腔結構。

6.根據權利要求4或5所述的一種腔內倍頻微片激光器的制備方法，其特征在于：還包括

步驟50、在所述激光晶體與倍頻晶體的四個側面分別用膠粘接加固用的載波片。

7.根據權利要求6所述的一種腔內倍頻微片激光器的制備方法，其特征在于：所述兩裸纖是從同一根光纖相鄰位置截下的。