[發明專利]一種氣壓浮動防碰撞的懸浮基盤拋光裝置

有效

• 申請號: 201310193910.1
• 申請日: 2013-05-22
• 公開（公告）號: CN103341816A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 張利;金明生;孫建輝;單曉杭
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/34
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241
• 代理人: 王利強

1.一種氣壓浮動防碰撞的懸浮基盤拋光裝置，包括機座、懸浮基盤和研磨盤，所述懸浮基盤與加壓組件連接，所述懸浮基盤位于研磨盤上，所述研磨盤通過主驅動器繞固定中心軸線轉動，所述懸浮基盤與研磨盤相對面沿圓周方向設有楔形槽和用以放置待加工工件的加工工位，所述楔形槽中充滿拋光液，所述楔形槽和加工工位間隔設置，其特征在于：所述研磨盤為U形研磨盤，所述懸浮基盤套裝在U形研磨盤內且與U形研磨盤內壁有間隙，所述懸浮基盤中心有進氣腔，所述懸浮基盤沿圓周方向均布徑向節流孔且與進氣腔相通，所述節流塞套裝在節流孔內，供氣管道通過儲氣蓋與懸浮基盤連接且和進氣腔相通。

2.如權利要求1所述的氣壓浮動防碰撞的懸浮基盤拋光裝置，其特征在于：所述加壓組件為砝碼，所述砝碼加壓在懸浮基盤上。

3.如權利要求1或2所述的氣壓浮動防碰撞的懸浮基盤拋光裝置，其特征在于：所述U形研磨盤內壁底面鋪有拋光布。

4.如權利要求1或2所述的氣壓浮動防碰撞的懸浮基盤拋光裝置，其特征在于：所述供氣管道采用旋轉供氣裝置。