[發(fā)明專利]用于等離子割炬的電極及其用途在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310190102.X | 申請日: | 2013-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN103418897A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 弗蘭克·勞里施;沃克·克林克 | 申請(專利權(quán))人: | 卡爾伯格-基金會 |
| 主分類號: | B23K10/00 | 分類號: | B23K10/00 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 等離子 電極 及其 用途 | ||
1.一種用于等離子割炬的電極,所述電極由以壓入配合和/或形狀匹配的方式彼此連接的電極支架(7.1)和發(fā)射插入件(7.2)構(gòu)成,
其特征在于,所述發(fā)射插入件(7.2)沿著所述發(fā)射插入件的縱向軸線具有至少一個部分(7.23),所述至少一個部分(7.23)被布置在其它兩個部分(7.24和7.22)之間或者布置成緊挨著另一部分(7.21)或所述其它兩個部分中的任一部分(7.22或7.24),所述至少一個部分(7.23)相對于其它部分(7.21、7.22、7.24)具有在所述發(fā)射插入件(7.2)的旋轉(zhuǎn)對稱設(shè)計中的減小的外徑或在非旋轉(zhuǎn)對稱的發(fā)射插入件(7)中的減小的橫截面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極,其特征在于,具有減小的外徑或者減小的橫截面的所述至少一個部分(7.23)為優(yōu)選地徑向環(huán)繞在整個外保護罩表面上的溝槽狀的凹槽的形式。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電極,其特征在于,朝著待切割的工件的方向上成錐形漸縮的部分(7.21)鄰接具有減小的外徑或減小的橫截面的所述部分(7.23),并且所述成錐形漸縮的部分(7.21)更靠近所述待切割的工件。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,具有恒定外徑或恒定橫截面的部分(7.22)被布置在具有的減小的外徑或減小的橫截面的所述部分(7.23)和錐形漸縮的部分(7.21)之間。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,所述發(fā)射插入件(7.2)的面向待機加工的工件的方向的尖端被制成圓錐形狀、棱錐形狀或者截頭圓錐形狀或者截頭棱錐形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電極,其特征在于,在面向工件的方向上,截頭圓錐形式或者截頭棱錐形式的發(fā)射插入件(7.21)具有端面,所述端面被形成為圓形表面的形狀或者多邊形的形狀并且面向所述工件布置,圓形表面或多邊形表面的所述端面的橫截面小于存在于所述發(fā)射插入件(7.2)中的所有的部分(7.21、7.22、7.23和7.24)的橫截面。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,具有減小的外徑或減小的橫截面的所述部分(7.23)被制成為矩形、梯形或楔形或者扇形形狀的凹槽。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,至少一個中空的空間形成在所述電極支架(7.1)中,冷卻劑能夠被導入所述至少一個中空的空間中和/或引導通過所述至少一個中空的空間。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,所述電極支架(7.1)由具有良好導電性和導熱性的材料制成,優(yōu)選地由Ag或Cu或者Ag和Cu的合金制成,并且所述發(fā)射插入件(7.2)由鎢、鉿、鎢合金或鉿合金制成。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,具有減小的外徑或者減小的橫截面的所述部分(7.23)具有減小的外徑或者減小的橫截面的溝槽狀的凹槽的形式,所述部分(7.23)小于緊挨著具有減小的外徑或減小的橫截面的所述部分(7.23)直接布置的部分(7.22或7.24)的外徑或橫截面至少20%。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,所述發(fā)射插入件(7.2)包括實心的材料和/或通過壓入配合被連接到所述電極支架(7.1)。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極,其特征在于,通過半徑面(R1、R2、R3)和/或斜面(F1或F2)形成所述部分(7.23)與緊挨著所述部分布置的部分(7.22、7.24)的過渡。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的電極在等離子炬中的用途,其中,所述等離子炬具有至少一個等離子炬頭(1),所述至少一個等離子炬頭(1)具有由所述電極支架(7.1)和所述發(fā)射插入件(7.2)構(gòu)成的電極(7)、噴嘴(4)和用于等離子體氣體(PG)的氣體進口,并且存在于所述發(fā)射插入件(7.2)中的部分(7.23)相對于緊挨著所述部分(7.23)布置的至少一個部分(7.22和/或7.24)具有減小的外徑或減小的橫截面。
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