[發明專利]一種高精密擠壓式涂布裝置

有效

• 申請號: 201310189241.0
• 申請日: 2013-05-21
• 公開（公告）號: CN103301995A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 金國華
• 申請（專利權）人: 上海襲麟光學科技發展有限公司
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/02
• 代理公司: 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

技術領域

本發明涉及涂布裝置，特別是涉及一種高精密擠壓式涂布裝置，具體說是一種應用于生產潔凈光學薄膜涂層的高精密擠壓式涂布裝置。

背景技術

光學膜、屏幕保護膜、汽車隔熱膜、汽車防爆膜、IMD、墻膜、各種型號的膠帶、柔性或硬性覆銅板及各種柔性線路板的生產必須用光學級精密涂布裝置。

目前市場上的涂布設備所采用的涂布裝置由于涂布精度不高，涂布厚度無法自由控制，生產出來的涂膠層容易產生顏色及厚度不均，膜面氣泡點、顆粒點多等問題，直接造成了產品的質量問題，影響了我國精密光學涂布行業的發展。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種高精密擠壓式涂布裝置，能夠解決現有技術中涂布裝置由于涂布精度不高，涂布厚度無法自由控制，生產出來的涂膠層容易產生顏色及厚度不均、膜面氣泡點、顆粒點多等問題。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供了一種高精密擠壓式涂布裝置，包括DIE涂布頭機構、滑槽定位機構、膠液回收機構以及DIE涂布底輥撐料機構，所述的DIE涂布頭機構的左右兩側上方分別安裝所述的滑槽定位機構，所述的DIE涂布頭機構的下部還附帶有兩個膠液密封腔，所述的DIE涂布底輥撐料機構安裝在所述的膠液密封腔上方的一側，所述的膠液回收機構放置在所述的DIE涂布底輥撐料機構的下方并與所述的滑槽定位機構相連接，其中，所述的擠壓式涂布裝置還包括上下調節輥撐料機構，所述的上下調節輥撐料機構用于替代DIE涂布底輥撐料機構。

在本發明一個較佳實施例中，所述的DIE涂布頭機構包括上壓板、下壓板以及安裝在上壓板和下壓板之間的擠壓式涂布頭，所述的上壓板和下壓板之間通過不銹鋼螺絲鎖緊固定。

在本發明一個較佳實施例中，所述的上壓板和下壓板之間還墊加有兩塊不同厚度的錳鋼片，所述的擠壓式涂布頭安裝在兩塊錳鋼片之間。

在本發明一個較佳實施例中，所述的下壓板為等截面雙腔結構，所述的下壓板上設置有第一儲料腔和第二儲料腔，所述的第一儲料腔高于第二儲料腔。

在本發明一個較佳實施例中，所述的上壓板和下壓板采用雙相鋼的材質。

在本發明一個較佳實施例中，所述的DIE涂布底輥撐料機構包括DIE涂布底輥以及分別安裝在DIE涂布底輥兩端的軸承座。

在本發明一個較佳實施例中，所述的DIE涂布底輥的直徑為200-400mm。

在本發明一個較佳實施例中，所述的DIE涂布底輥通過單獨伺服電機驅動，采用安川運動控制器控制。

在本發明一個較佳實施例中，所述的上下調節輥撐料機構包括側擋板、調節輥以及調節手閥，所述的調節輥分別安裝在側擋板的上下兩端，所述的調節手閥安裝在調節輥的一端。

在本發明一個較佳實施例中，所述的上下調節輥撐料機構DIE涂布底輥撐料機構不能同時使用。

本發明的有益效果是：本發明的高精密擠壓式涂布裝置，包括兩種材料膜撐料機構，一種為DIE涂布底輥撐料機構，并且在DIE涂布頭機構的下部還附帶兩個膠液密封腔，另一種為上下調節輥的撐料機構，進行涂布操作時可根據膠液的不同固含量、以及實際操作中工藝的實際需求，更換不同的材料膜撐料機構進行涂布來達到工藝實施要求夠使得基材整幅膜面的涂布量均勻，而且可以隨意控制膠液的涂布厚度，涂布精密度高，并且在膜面上不容易產生膠拉絲，可以提高涂布的成膜合格率。

附圖說明

圖1是本發明高精密擠壓式涂布裝置一較佳實施例的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、DIE涂布頭機構，2、滑槽定位機構，3、膠液回收機構，4、DIE涂布底輥撐料機構，5、上下調節輥撐料機構，6、膠液密封腔，41、DIE涂布底輥，42、軸承座，51、側擋板，52、調節輥。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。