[發(fā)明專利]修正輔助圖案的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310184909.2
• 申請日: 2013-05-17
• 公開（公告）號: CN104166304B
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳宗曄;林金隆;范耀仁;簡韋瀚;蔡佳君
• 申請（專利權(quán)）人: 聯(lián)華電子股份有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36
• 代理公司: 11105 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 史新宏

本發(fā)明提供一種修正輔助圖案的方法，包括下列步驟。首先，由一計算機(jī)系統(tǒng)接收一第一布局圖案，并將第一布局圖案分割為多個第一區(qū)域。接著，添加多個輔助圖案于第一布局圖案中以形成一第二布局圖案，且定義相鄰任一第一區(qū)域的任一邊線的至少一輔助圖案為一選取圖案，隨后，將第二布局圖案分割為多個第二區(qū)域。最后，對具有選取圖案的第二區(qū)域進(jìn)行一檢測步驟，且修正第二布局圖案以形成一已修正的第二布局圖案。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是關(guān)于一種修正輔助圖案的方法，尤指一種在光學(xué)鄰近修正(opticalproximity correction,OPC)方法修正原始布局圖案之前，先行修正輔助圖案的方法。

背景技術(shù)

由于電子產(chǎn)品及其周邊產(chǎn)品是朝輕薄短小方向發(fā)展，在半導(dǎo)體制程中，元件縮小化與積集化是必然的趨勢，也是各界積極發(fā)展的重要課題，其中微影技術(shù)(lithography)是決定元件性能的關(guān)鍵技術(shù)。

現(xiàn)行的半導(dǎo)體制程是先將集成電路(integrated circuits)的布局圖案形成于一光罩上，隨后將光罩上的圖案藉由曝光與顯影步驟，以一定比例轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體芯片上的光阻層中，并進(jìn)一步配合相關(guān)的蝕刻制程，將元件逐步形成于半導(dǎo)體芯片上。隨著集成電路的積集度的提升，元件尺寸縮小，元件與元件間的距離也隨之縮小。然而，由于光學(xué)鄰近效應(yīng)(optical proximity effect,OPE)等因素的影響，上述元件的距離在曝光制程中已面臨到其極限。舉例來說，為了得到微小尺寸的元件，光罩的透光區(qū)的間隔(pitch)將配合元件尺寸而縮小，但若透光區(qū)之間的間隔縮小至特定范圍時(曝光波長為1/2或以下時)，通過光罩的光線會發(fā)生繞射、干涉等現(xiàn)象，進(jìn)而影響轉(zhuǎn)移后圖案的分辨率，使得光阻上的圖形產(chǎn)生偏差(deviation)，例如直角轉(zhuǎn)角圓形化(right-angled corner rounded)、直線末端緊縮(line end shortened)以及直線線寬增加或縮減(line width increase/decrease)等，都是常見的光學(xué)鄰近效應(yīng)所導(dǎo)致的光阻圖案缺陷。

為了解決上述的問題，已知技術(shù)藉由在光罩上集成電路的布局圖案之間形成輔助圖案(assist pattern)例如：虛置圖案(dummy pattern)或分散條(scattering bar)，以減少光阻圖案缺陷的發(fā)生。而如何形成合適的輔助圖案，以進(jìn)一步于目標(biāo)層中形成預(yù)期的布局圖案實為相關(guān)技術(shù)者所欲改進(jìn)的課題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于提供一種修正輔助圖案的方法，以提高光罩圖案的正確度，進(jìn)而形成預(yù)期的布局圖案。

本發(fā)明的一較佳實施例是提供一種修正輔助圖案的方法，包括下列步驟。首先，由一計算機(jī)系統(tǒng)接收一第一布局圖案，并將第一布局圖案分割為多個第一區(qū)域。接著，添加多個輔助圖案于第一布局圖案中以形成一第二布局圖案，且定義相鄰任一第一區(qū)域的任一邊線的至少一輔助圖案為一選取圖案，隨后，將第二布局圖案分割為多個第二區(qū)域。最后，對具有選取圖案的第二區(qū)域進(jìn)行一檢測步驟，且修正第二布局圖案以形成一已修正的第二布局圖案。

本發(fā)明的特點在于，對布局圖案進(jìn)行光學(xué)鄰近修正運算之前，先對布局圖案進(jìn)行兩次的分割運算，以改善添加的輔助圖案的正確性。更詳細(xì)地說，首先，對布局圖案進(jìn)行第一次分割以形成多個第一區(qū)域，并選擇相鄰第一區(qū)域的邊界的輔助圖案作為選取圖案；接著，進(jìn)行第二次分割，例如：擴(kuò)大包含選取圖案的第一區(qū)域或平移此第一區(qū)域以形成第二區(qū)域，使第二區(qū)域的邊界未重迭選取圖案，且第二區(qū)域包含的圖案不同于第一區(qū)域包含的圖案，以進(jìn)一步確認(rèn)選取圖案與相鄰圖案(尤指原先此第一區(qū)域未包含的輔助圖案)的相對關(guān)系。據(jù)此，可避免不適當(dāng)?shù)妮o助圖案的設(shè)置，提高光罩圖案的正確度，以形成預(yù)期的布局圖案。

附圖說明

圖1繪示了本發(fā)明的一較佳實施例的修正輔助圖案的方法的流程圖。

圖2至圖9繪示了本發(fā)明的一較佳實施例的修正輔助圖案的方法的示意圖。