[發(fā)明專利]適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310183867.0 | 申請日: | 2013-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN103267581A | 公開(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 文錦輝;李聰;朱偉強;謝志鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 中山大學(xué) |
| 主分類號: | G01J11/00 | 分類號: | G01J11/00 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 禹小明 |
| 地址: | 510275 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 適用于 測量 整形 脈沖 光譜 剪切 干涉儀 | ||
1.一種適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,包括依照待測脈沖傳播路徑排列而成的分束鏡、平面光柵、第一凹面反射鏡、雙縫擋板、第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、直角反射鏡、可將脈沖偏振方向旋轉(zhuǎn)90度的潛望鏡、中間設(shè)有小孔的第四反射鏡、二類匹配和頻晶體、空間過濾器、光柵光譜儀;所述平面光柵、第一反射鏡、第二反射鏡到第一凹面反射鏡的距離均等于第一凹面反射鏡的焦距;其中,待測脈沖的傳播路徑分兩路進行:
第一路由分束鏡透射進入平面光柵,經(jīng)平面光柵、第一凹面反射鏡反射進入雙縫檔板,通過雙縫檔板形成兩個頻率有差別的準(zhǔn)單色光譜成分,一個準(zhǔn)單色光譜成分經(jīng)第一反射鏡、另一個準(zhǔn)單色光譜成分經(jīng)第二反射鏡后,再經(jīng)第一凹面反射鏡和平面光柵反射至原入射光束的上方,合成兩個不同高度的準(zhǔn)單色長脈沖,兩個不同高度的準(zhǔn)單色長脈沖經(jīng)過第三反射鏡、第四反射鏡的非小孔區(qū)域進入二類匹配和頻晶體;
第二路由分束鏡反射,再經(jīng)直角反射鏡、再經(jīng)過可將脈沖偏振方向旋轉(zhuǎn)90度的潛望鏡,然后穿過第四反射鏡中間的小孔進入二類匹配和頻晶體上,第二路光束在二類匹配和頻晶體上的入射位置、入射時間和兩個不同高度的準(zhǔn)單色長脈沖的入射位置、入射時間相同;
在二類匹配和頻晶體上待測脈沖同時與兩個準(zhǔn)單色長脈沖發(fā)生和頻作用,生成兩個光譜分布相互錯開的和頻脈沖;
從二類匹配和頻晶體出射的光束經(jīng)過空間過濾器將三個基頻脈沖擋住而讓兩個和頻脈沖通過,兩個和頻脈沖通過空間過濾器后入射至光柵光譜儀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,所述雙縫擋板為一薄金屬板,所述薄金屬板上設(shè)置有一條長細(xì)狹縫和一組短細(xì)狹縫,待測脈沖入射至雙縫擋板時選取長細(xì)狹縫和任意一條短細(xì)狹縫通過,獲得兩個頻率有差別的準(zhǔn)單色光譜成分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,一組短細(xì)狹縫中的所有短細(xì)狹縫的寬度相等,各短細(xì)狹縫與長細(xì)狹縫之間的水平間距和垂直間距依次遞增。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,還包括第二凹面反射鏡和第五反射鏡,待測脈沖和兩個準(zhǔn)單色長脈沖經(jīng)過第四反射鏡后還分別通過第二凹面反射鏡的聚焦和第五反射鏡的反射再進入二類匹配和頻晶體中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,還包括第三凹面反射鏡、第六反射鏡和第七反射鏡,兩個和頻脈沖經(jīng)過空間過濾器后還經(jīng)過第三凹面反射鏡聚焦后再經(jīng)第六反射鏡和第七反射鏡的反射,最終進入光柵光譜儀。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,所述光柵光譜儀內(nèi)置有面陣CCD相機。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,所述雙縫擋板安裝在精密平移臺上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,第一反射鏡安裝在精密平移臺上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項所述的適用于測量整形脈沖的光譜剪切干涉儀,其特征在于,直角反射鏡安裝在精密平移臺上。
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