[發明專利]一種多光源大視場拼接照明系統有效
| 申請號: | 201310183230.1 | 申請日: | 2013-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN104166312A | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 景磊;張祥翔;陳璐玲 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;F21V8/00 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光源 視場 拼接 照明 系統 | ||
1.一種多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,包括:多個光源,多個光纖,及多個照明分系統,每個光源和每個照明分系統之間至少設置有一個光纖,光線由所述光源發射,經過所述多個光纖分別入射到所述多個照明分系統,經所述照明分系統處理后在掩模板上形成照明視場。
2.如權利要求1所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述照明分系統包括耦合透鏡組,平板調節裝置,勻光裝置,及中繼透鏡組,由所述光纖引導的光線,入射到所述耦合透鏡組耦合后,經平板調節裝置調整角度,再經勻光裝置勻光后進入中繼透鏡組。
3.如權利要求1或2所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,還包括投影物鏡,所述投影物鏡中設置狹縫光闌,由所述照明分系統出射的光線,經過所述投影物鏡及所述狹縫光闌,在所述投影物鏡的像面上形成梯形曝光視場。
4.如權利要求1所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述光源包括汞燈及橢球反射鏡。
5.如權利要求2所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述勻光裝置包括微透鏡陣列和石英棒。
6.如權利要求1所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述光纖的數目與照明分系統數目相同。
7.如權利要求2所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述平板調節裝置包括一個平行平板和兩個楔角方向相反的楔形平板。
8.如權利要求7所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述兩個楔形平板的傾斜角度分別為13.68°和11.31°。
9.如權利要求2所述的多光源大視場拼接照明系統,其特征在于,所述平板調節裝置位于所述耦合透鏡組后方,所述勻光裝置前方。
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