[發明專利]具有氣體導引裝置的光罩盒

在審

• 申請號: 201310151706.3
• 申請日: 2013-04-18
• 公開（公告）號: CN104071464A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發明（設計）人: 呂保儀;林添瑞
• 申請（專利權）人: 家登精密工業股份有限公司
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

技術領域

本發明是有關于一種光罩盒，特別是指一種具有氣體導引裝置的光罩盒。

背景技術

近代半導體科技發展迅速，其中光學微影技術扮演重要的角色，只要是關于圖形定義，皆需仰賴光學微影技術。光學微影技術在半導體的應用上，是將設計好的線路制作成具有特定形狀可透光的光罩。利用曝光原理，則光源通過光罩投影至硅晶圓可曝光顯示特定圖案。由于任何附著于光罩上的塵埃顆粒(如微粒、粉塵或有機物)都會造成投影成像的質量劣化，用于產生圖形的光罩必須保持絕對潔凈，因此在一般的晶圓制程中，都提供無塵室的環境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕對無塵的狀態。

現代的半導體制程皆利用抗污染的光罩盒進行光罩的保存與運輸，以使光罩保持潔凈。光罩盒在半導體制程中用于存放光罩，以利光罩在機臺之間的搬運與傳送，并隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩被雜質污染而產生變化。因此，在先進的半導體廠中，通常會要求光罩盒的潔凈度要符合機械標準接口(Standard?Mechanical?Interface；SMIF)，也就是說保持潔凈度在Class1以下。故，為了使光罩盒的潔凈度符合機械標準接口，主要透過于光罩盒中充入高潔凈氣體。

目前光罩盒的底部具有至少一進氣孔，所以可從進氣孔填充一高潔凈氣體至光罩盒內，而高潔凈氣體自然流動于光罩盒內，大部分高潔凈氣體流動于光罩與光罩盒的底部間的空間，少部分的高潔凈氣體流動至光罩與光罩盒的頂部間的空間，導致高潔凈氣體于光罩盒內分布不均勻，使高潔凈氣體對光罩的清潔效果不佳，如此必須持續填充高潔凈氣體至光罩盒內，直到光罩清潔干凈為止，進而增加高潔凈氣體的使用量，并導致充氣高潔凈氣體至光罩盒內的效率不佳。

有鑒于上述問題，本發明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其具有一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒的進氣孔進入的一高潔凈氣體均勻分布于光罩與光罩盒的頂部間的空間及光罩與光罩盒的底部間的空間，并改善上述問題。

發明內容

本發明的目的，在于提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其具有至少一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒的至少一進氣孔進入的一高潔凈氣體均勻分布于光罩的上下空間，有效提升高潔凈氣體清潔光罩的效率，進而減少高潔凈氣體的使用量，并提升高潔凈氣體的充填效率。

本發明提供一種具有氣體導引裝置的光罩盒，其包含：一底座，其具有至少一進氣孔；一蓋體，其罩設于該底座，并與該底座間具有一容置空間，該容置空間容置一光罩，該光罩分隔該容置空間為一第一氣體流動空間及一第二氣體流動空間；以及至少一氣體導引裝置，其設置于該底座，該氣體導引裝置具有一第一氣體導引流道、至少一第二氣體導引流道、至少一第三氣體導引流道、一第一出氣開口及一第二出氣開口，該第一氣體導引流道與該進氣孔相連通，該第二氣體導引流道及該第三氣體導引流道與該第一氣體導引流道相連通，該第一出氣開口與該第二氣體導引流道相連通，該第二出氣開口與該第三氣體導引流道相連通，該第一出氣開口對應該第一氣體流動空間，該第二出氣開口對應該第二氣體流動空間；其中該第一出氣開口的開口面積小于該第二出氣開口的開口面積，以使該第一氣體流動空間內的一高潔凈氣體的流量與該第二氣體流動空間內的該高潔凈氣體的流量相同。

實施本發明產生的有益效果是：本發明的具有氣體導引裝置的光罩盒，于光罩盒內設置至少一氣體導引裝置，透過氣體導引裝置導引由進氣孔所流入的高潔凈氣體均勻分布于光罩的上下空間，使高潔凈氣體可均勻地對光罩清潔，有效提升高潔凈氣體對光罩的清潔效率，以維持光罩盒于高潔度的狀態，避免光罩與外界的空氣接觸，同時減少高潔凈氣體的使用量，有效提升高潔凈氣體的充填效率。

附圖說明

圖1為本發明的第一實施例的光罩盒的外觀圖；

圖2為本發明的第一實施例的光罩盒的組裝圖；

圖3為本發明的第一實施例的光罩盒的剖面圖；

圖4A為本發明的第一實施例的氣體導引裝置的外觀圖；

圖4B為本發明的第一實施例的氣體導引裝置的組裝圖；

圖4C為本發明的圖4A的A區域的局部放大圖；

圖5為本發明的第一實施例的光罩盒的使用狀態圖；

圖6A為本發明的第二實施例的氣體導引裝置的外觀圖；

圖6B為本發明的第二實施例的氣體導引裝置的組裝圖；

圖7為本發明的第二實施例的光罩盒的使用狀態圖；

圖8A為本發明的第三實施例的光罩盒的仰視圖；

圖8B為本發明的圖8A的B區域的局部放大圖；以及