[發(fā)明專利]一種光掩模中心偏移測量裝置及其測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310140467.1
• 申請日: 2013-04-22
• 公開（公告）號: CN104111030A
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王雪英;段小楠
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫華潤微電子有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G03F1/44
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于掩模測量技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光掩模中心偏移測量裝置及其測量方法。

背景技術(shù)

集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速，作為集成電路制造業(yè)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，掩模制造水平?jīng)Q定了集成電路制造水平的高低。隨著最小特征尺寸越來越小，對掩模的測量水平和精度要求也越來越高。

在掩模測量的過程中，除缺陷檢查、線寬測量、套準(zhǔn)測量等幾個大項(xiàng)目之外，還有圖形中心偏移的測量也是一個關(guān)鍵的測量參數(shù)。這個參數(shù)直接關(guān)系著掩模在用戶處能否被光刻機(jī)識別。

由于該參數(shù)的精度要求沒有線寬測量那么高，一般精度達(dá)到0.1mm就可以基本滿足要求，原有測量方法是用直尺直接靠近掩模測量。這種直尺測量方法雖然基本可以滿足我們的生產(chǎn)要求，但它還是存在不少的缺點(diǎn)，具體如下：

1）、用直尺直接靠近掩模，存在劃傷掩模的風(fēng)險。

2）、用直尺測量，存在人為視覺判斷誤差，精度最多到0.1mm。

由于掩模制造水平的不斷的發(fā)展，傳統(tǒng)的測量精度已經(jīng)無法滿足掩模日益發(fā)展的需求。

因此，基于原有測量方法的風(fēng)險和精確度不高的缺點(diǎn)，在后續(xù)生產(chǎn)中，有必要尋找一種能夠有效提高掩模中心偏移的測量精度，減小測量誤差，且避免測量時對掩模造成劃傷損壞的測量裝置及測量方法，以滿足測量需求，保證使用安全，降低使用成本。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種光掩模中心偏移測量裝置及其測量方法，以達(dá)到提高測量精度，降低測量誤差，且測量時除放置掩模的平臺外均不與掩模接觸，避免劃傷掩模，保證了掩模使用安全，避免出現(xiàn)掩模的損壞報廢等問題，降低使用成本的目的。

根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種光掩模中心偏移測量裝置，包括移動工作臺、定位儀，以及與所述移動工作臺電連接的數(shù)據(jù)顯示器；所述掩模放置于所述移動工作臺上，所述定位儀設(shè)置于所述移動工作臺的一側(cè)或上方；

所述定位儀用于對掩模上的不同位置進(jìn)行定位檢測，所述數(shù)據(jù)顯示器用于顯示所述移動工作臺的位移變化量；

在移動工作臺運(yùn)行的過程中，通過對相對于設(shè)計(jì)掩模的中心對稱的兩處位置及掩模兩側(cè)邊線進(jìn)行定位，計(jì)算移動工作臺的位移量以確定偏移量。

優(yōu)選的，所述定位儀為顯微鏡。

優(yōu)選的，所述定位儀為掃描儀。

優(yōu)選的，所述移動工作臺的走位精度至少為0.01mm。

優(yōu)選的，所述移動工作臺的走位數(shù)值大于等于80mm。

一種光掩模中心偏移測量方法，采用所述的光掩模中心偏移測量裝置，具體測量步驟如下：

（一）、將掩模放置于移動工作臺上，選中掩模上的一個圖形，該圖形的左右兩邊相對于設(shè)計(jì)掩模的中心都是對稱的；

（二）、驅(qū)動移動工作臺向左運(yùn)行使得顯微鏡中“十”字線與該圖形最左側(cè)邊線相切，后將數(shù)據(jù)顯示器清零；

（三）、移動工作臺繼續(xù)向左移動，使得顯微鏡中“十”字線與掩模最左側(cè)邊線相切，數(shù)據(jù)顯示器顯示出當(dāng)前工作臺移動的距離，該距離為被測圖形左邊線到掩模左邊線的距離記作A；

（四）、驅(qū)動移動工作臺向右運(yùn)行使得顯微鏡中“十”字線與該圖形最右側(cè)邊線相切，后將數(shù)據(jù)顯示器清零；

（五）、移動工作臺繼續(xù)向右移動，使得顯微鏡中“十”字線與掩模最右側(cè)邊線相切，數(shù)據(jù)顯示器顯示出當(dāng)前工作臺移動的距離，該距離為被測圖形右邊線到掩模右邊線的距離記作B；

（六）、將數(shù)值A(chǔ)、B進(jìn)行對比，如A與B數(shù)值相同，則掩模中心不存在偏移，否則∣A-B∣則為掩模中心的偏移量。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開的一種光掩模中心偏移測量裝置及其測量方法的優(yōu)點(diǎn)是：通過將掩模放置于移動工作臺上，在移動工作臺運(yùn)行的過程中，通過對相對于設(shè)計(jì)掩模的中心對稱的兩處位置及掩模兩側(cè)邊線進(jìn)行定位，移動工作臺移動的距離則為對稱的兩處位置至其對應(yīng)一側(cè)的邊線的距離，如果兩個距離相等，則掩模不存在中心偏移，如果不等，則兩個距離的差值的絕對值則為中心偏移量；采用此測量裝置及測量方法，一方面可有效提高測量精度，減小測量誤差，保證測量精度滿足現(xiàn)有技術(shù)的需求；另一方面，在測量時，僅放置掩模的移動工作臺與其接觸，因此避免出現(xiàn)掩模劃傷損壞、報廢等問題，降低使用成本，保證了使用的安全性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。