[發明專利]一種波像差測量裝置

有效

• 申請號: 201310140324.0
• 申請日: 2013-04-22
• 公開（公告）號: CN104111161B
• 公開（公告）日: 2017-02-08
• 發明（設計）人: 馬明英
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅

1.一種波像差測量裝置，用于光刻裝置投影物鏡波像差的測量，包括：

光源；

照明系統，所述光源發出的光經所述照明系統后形成照明光束入射到所述投影物鏡物面的物面掩模；

物面掩模，包括小孔標記，所述照明光束經所述小孔衍射形成理想球面波；

投影物鏡，所述理想球面鉑金所屬物鏡后形成攜帶有所述投影物鏡波像差的球面波投射到像面探測單元；

像面探測單元對所述攜帶有投影物鏡波像差的球面波進行探測以獲取所述投影物鏡波像差信息，其特征在于：

所述像面探測單元包括基底及探測器，所述基底上表面包含光柵標記，下表面包含窗口標記，所述攜帶有投影物鏡波像差的球面波進所述光柵標記衍射產生+1級光與-1級光會聚于基底下表面上的窗口標記，經所述窗口標記后所述+1級光與-1級光重疊干涉形成干涉圖像，所述干涉圖像被所述探測器記錄。

2.如權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述基底的下表面與所述投影物鏡的最佳焦面重合。

3.如權利要求2所述的波像差測量裝置，其特征在于所述光柵標記包括第一子光柵標記及第二子光柵標記，所述第一子光柵標記沿第一方向分布，所述第二子光柵標記沿第二方向分布，所述第一方向與第二方向垂直。

4.如權利要求3所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述第一、第二子光柵周期相同，均包括兩個透光區與兩個不透光區，所述透光區與不透光區間隔設置，所述透光區與不透光區的標記線寬相等。

5.如權利要求4所述的波像差測量裝置，其特征在于，經過所述兩個透光區的光束的光程相差180度。

6.如權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述光柵標記為二維光柵，包括若干第一透光區及若干第二透光區，所述若干第一透光區與第二透光區間隔設置。

7.如權利要求6所述的波像差測量裝置，其特征在于，經過所述第一透光區與第二透光區的光束的光程相差180度。

8.如權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述基底采用熔融石英玻璃。

9.如權利要求1所述的波像差測量裝置，其特征在于，所述小孔標記形狀為圓形或方形。