[發(fā)明專利]一種氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310135894.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103274699A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃誓成;何建進(jìn);陸映東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣西晶聯(lián)光電材料有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C04B35/622 | 分類號(hào): | C04B35/622;C04B35/457 |
| 代理公司: | 柳州市榮久專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 45113 | 代理人: | 韋微 |
| 地址: | 545036 廣西壯族*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氧化 旋轉(zhuǎn) 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是一種氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法。
背景技術(shù)
ITO薄膜具有透明和導(dǎo)電的雙重優(yōu)點(diǎn),是眾多行業(yè)基本材料之一,因此被廣泛用于太陽能電池、液晶顯示器和等離子顯示器等領(lǐng)域,在LCD、防霜、防霧、防紅外隔熱表層方面是必不可少的材料。近年來,伴隨著高檔顯示器件的快速發(fā)展,ITO薄膜的需求量也是急劇增長(zhǎng)。目前,工業(yè)上廣泛采用平面ITO靶材進(jìn)行鍍膜,平面ITO靶材形狀有長(zhǎng)方體、正方體、圓柱體和不規(guī)則形狀。長(zhǎng)方體、正方體和圓柱體形靶材為實(shí)心,濺射過程中,圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場(chǎng),在軸間等距離的環(huán)形表面上形成刻蝕區(qū),其缺點(diǎn)是薄膜沉積厚度均勻性不易控制,靶材的利用率較低,僅為20%~30%,刻蝕靶材均勻性差。ITO旋轉(zhuǎn)靶材的利用率可以達(dá)到80%以上,而且目前國(guó)內(nèi)外也鮮有廠家能生產(chǎn)出合格的ITO旋轉(zhuǎn)靶材,大部分都處于研發(fā)階段。ITO旋轉(zhuǎn)靶材核心技術(shù)難點(diǎn)在于控制成型過程的開裂和低密度問題,以及燒結(jié)過程ITO旋轉(zhuǎn)靶材收縮的均勻性控制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:提供一種氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法,能夠制備相對(duì)密度大于99%的氧化銦錫陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材,制備的靶材具有組織均勻晶粒細(xì)小,高耐熱沖擊等特點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)大功率高速穩(wěn)定磁控濺射鍍膜,從而適用于大面積ITO鍍膜生產(chǎn)。
解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案是:一種氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法,包括以下步驟:
(1)將由化學(xué)共沉淀法得到的氧化銦錫粉末裝入管狀柔性模具中,在裝粉過程中,把模具放置在低頻振動(dòng)工作臺(tái)上,裝粉完畢密封后,以200~400MPa壓力進(jìn)行冷等靜壓成型,冷等靜壓結(jié)束后,卸壓至常壓,脫模后獲得氧化銦錫管狀素坯;
(2)再將氧化銦錫管狀素坯放入脫脂爐中進(jìn)行脫脂;
(3)然后將脫脂后的坯體放入壓力燒結(jié)爐中,按一定的燒結(jié)條件在氧氣壓力下進(jìn)行壓力燒結(jié),得到相對(duì)密度在99%以上的管狀氧化銦錫靶材,即氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材。
本發(fā)明的進(jìn)一步技術(shù)方案是:步驟(1)中所述的冷等靜壓結(jié)束后,卸壓至常壓的過程中采用N級(jí)卸壓保壓,第一級(jí)卸壓保壓的壓力為冷等靜壓壓力的0.5~0.85倍,后一級(jí)卸壓保壓的壓力為前一級(jí)卸壓保壓壓力的0.5~0.85倍,各級(jí)的保壓時(shí)間均為1~10min,第N級(jí)卸壓保壓結(jié)束后直接卸壓至常壓,3≤N≤8。
步驟(2)的具體步驟為:將氧化銦錫管狀素坯放入脫脂爐,以0.1~0.5℃/?min的升溫速率,升至500℃,保溫1~3小時(shí)后,以0.3~1℃/min的降溫速率降至室溫。
步驟(3)中所述的燒結(jié)條件是指以0.5~2℃/?min的升溫速率升溫,至1450~1600℃保溫?zé)Y(jié)10~15小時(shí),然后按降溫速率0.75~1℃/?min降溫至1000℃,之后自然降溫。
步驟(3)中所述的壓力燒結(jié)是指在1~5公斤的氧氣壓力下進(jìn)行燒結(jié)。
步驟(1)中所述的氧化銦錫粉末中氧化錫質(zhì)量百分含量為0.1~12%,氧化銦錫粉末的純度為99.99%以上。
步驟(1)中所述的管狀柔性模具是由圓柱鋼芯、柔性包套和柔性端蓋組成的組合模具,柔性端蓋套裝在圓柱鋼芯兩端,柔性包套套裝在柔性端蓋上,柔性包套和圓柱鋼芯之間形成用于盛裝氧化銦錫粉末的空腔,所述的柔性包套和柔性端蓋的材質(zhì)是聚氨酯、氯丁橡膠、腈橡膠和聚氯酯中的任意一種。
本發(fā)明制備得到的氧化銦錫管狀旋轉(zhuǎn)靶材,其優(yōu)點(diǎn)在濺射過程中,靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn),因而360°靶面可被均勻刻蝕,同時(shí)濺射原子可向各個(gè)方向飛行,均勻性好,濺射面積大,更換操作方便,生產(chǎn)效率高,靶材利用率高(>?80%),并且對(duì)零件內(nèi)壁的沉積具有獨(dú)特的優(yōu)越性。
下面,結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明之一種氧化銦錫旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法的技術(shù)特征作進(jìn)一步的說明。
附圖說明
圖1-圖2:本發(fā)明所用的管狀柔性模具結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1:主視剖視圖,圖2:圖1的A-A剖視圖。
圖中:1-柔性端蓋,2-圓柱鋼芯,3-柔性包套,4-氧化銦錫粉末。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1:
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