[發(fā)明專(zhuān)利]一種量測(cè)圖案化襯底的量測(cè)方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310119340.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103196400A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盛建明;江成龍;涂亮亮;石劍舫 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 常州同泰光電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01B15/00 | 分類(lèi)號(hào): | G01B15/00 |
| 代理公司: | 常州市維益專(zhuān)利事務(wù)所 32211 | 代理人: | 路接洲 |
| 地址: | 213000 江蘇省常州市武進(jìn)區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圖案 襯底 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種圖形的測(cè)量方法,尤其是一種利用SEM無(wú)損傷測(cè)試圖形化襯底圖形尺寸的方法。
背景技術(shù)
目前資源匱乏,能源緊張問(wèn)題已經(jīng)成為全球經(jīng)濟(jì)發(fā)展的瓶頸,在供電日趨緊張的情況下,世界各國(guó)均不約而同地開(kāi)始了新型照明光源的探索。LED作為一種得到廣泛關(guān)注的新型光源,具有節(jié)能、環(huán)保、壽命長(zhǎng)等優(yōu)勢(shì),理論上可實(shí)現(xiàn)只消耗白熾燈10%的能耗,比熒光燈節(jié)能50%。
LED用于日常生產(chǎn)生活必須提高其發(fā)光效率,而目前常用的技術(shù)方案就是使用圖案化藍(lán)寶石襯底,即PSS技術(shù)。PSS就是利用光刻、刻蝕等技術(shù)在單拋的藍(lán)寶石襯底表面加工出有規(guī)律的圖案,選擇合適的PSS襯底,可以減少LED外延中的位錯(cuò)密度,改善晶體質(zhì)量提高LED內(nèi)量子效率;同時(shí)PSS的特殊結(jié)構(gòu)也可以散射光線增加光萃取效率,因此增加LED亮度。基于此,對(duì)PSS的選擇也隨即成為了LED產(chǎn)業(yè)鏈中重要一環(huán),目前用于檢測(cè)PSS的主要測(cè)試方式主要包括掃SEM和原子力顯微鏡(AFM):然而常規(guī)測(cè)試中SEM是破壞性測(cè)試,無(wú)形中將會(huì)增加原料成本;AFM測(cè)試則會(huì)導(dǎo)致探針的損耗嚴(yán)重,并且一旦探針更換不及時(shí)就會(huì)得到看似理想的結(jié)果,實(shí)則為虛假信息,這樣便會(huì)給生產(chǎn)帶來(lái)嚴(yán)重后果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提出一種通過(guò)測(cè)試旋轉(zhuǎn)SEM承載臺(tái)一定角度的圖形尺寸來(lái)計(jì)算實(shí)際尺寸的量測(cè)圖案化襯底的方法。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:一種量測(cè)圖案化襯底的量測(cè)方法,包括以下步驟:
1)將樣品整片放置在掃描電子顯微鏡SEM承載臺(tái)上;
2)旋轉(zhuǎn)SEM承載臺(tái)一定的角度m;
3)分別記錄旋轉(zhuǎn)后樣片圖形的高度h,水平夾角α,通過(guò)公式得到圖形實(shí)際高度H與h,α,m之間的關(guān)系,計(jì)算得出實(shí)際高度H。
所述的實(shí)際高度H與h,α,m之間的關(guān)系是:
進(jìn)一步的說(shuō),待測(cè)樣品為具有圓錐形圖案的圖形化襯底,其正視圖為等腰三角形;所述的實(shí)際高度H與h,α,m之間的關(guān)系是:
本發(fā)明在測(cè)試中由于SEM的探頭保持不變,故圖形與水平夾角α幾乎接近為恒定值,這樣便可以逐漸統(tǒng)計(jì)到tanα的趨近值,最后根據(jù)tanα值可以計(jì)算得到實(shí)際圖形尺寸與旋轉(zhuǎn)后圖形尺寸間的關(guān)系。
本發(fā)明的有益效果是:一方面該方法啟用了現(xiàn)有設(shè)備一些常被忽視的功能,增加了設(shè)備利用率,另一方面確實(shí)能反映所測(cè)樣品的尺寸信息,且制樣簡(jiǎn)單,測(cè)試也不復(fù)雜。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
圖1為旋轉(zhuǎn)45°后計(jì)算模型;
圖2為同一SEM機(jī)臺(tái)固定夾角與高度關(guān)系;
圖3為tanα的趨勢(shì)圖;
圖4為旋轉(zhuǎn)45°后SEM測(cè)試照片。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在結(jié)合附圖和優(yōu)選實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖,僅以示意方式說(shuō)明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。
為了計(jì)算圖形化襯底上面圖形的實(shí)際尺寸,本發(fā)明中對(duì)測(cè)試過(guò)程進(jìn)行以下規(guī)定:測(cè)試過(guò)程SEM的倍率、掃描速率等均保持一致,另外由于測(cè)試過(guò)程均在同一臺(tái)SEM上進(jìn)行,且測(cè)試過(guò)程用的承載臺(tái)也為同一臺(tái)。因此將模型簡(jiǎn)化為圖1所示(旋轉(zhuǎn)角度為45°),根據(jù)圖1可以得到:
而對(duì)于同一臺(tái)SEM,在同樣旋轉(zhuǎn)45°時(shí),可以得到圖2:
同一臺(tái)SEM,同一個(gè)45°下測(cè)試,
假定tanα=C(C為常數(shù))
考察:(H,h)∝tanα
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