[發明專利]渦電流傳感器以及研磨方法和裝置

有效

• 申請號: 201310110317.6
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN103358222B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發明（設計）人: 高橋太郎;多田光男
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B37/013
• 分類號: B24B37/013
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所31210
• 代理人: 徐曉靜

1.一種渦電流傳感器，其特征在于，該渦電流傳感器配置于形成有金屬膜或導電性膜的基板的附近，檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流，

該渦電流傳感器構成為，將卷繞了導線或導電體的尺寸不同的多個線圈互相分離地配置為外側的線圈包圍內側的線圈，

各個所述多個線圈分別檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流。

2.根據權利要求1所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述多個線圈構成分別檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流的檢測線圈。

3.根據權利要求2所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述渦電流傳感器，具備有與交流信號源相連接、在所述金屬膜或導電性膜上形成渦電流的多個勵磁線圈，所述多個勵磁線圈互相分離分離配置為外側的勵磁線圈包圍內側的勵磁線圈。

4.根據權利要求2所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述渦電流傳感器，具備有分別與所述多個檢測線圈串聯連接的多個虛設線圈，所述多個虛設線圈互相分離分離配置為外側的虛設線圈包圍內側的虛設線圈。

5.根據權利要求2所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將列定義為對于基板的垂直方向、層定義為對于基板的平行方向時，所述多個檢測線圈中的至少1個由線材或導電體卷繞為1列多層的線圈構成。

6.根據權利要求3所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將列定義為對于基板的垂直方向、層定義為對于基板的平行方向時，所述多個勵磁線圈中的至少1個由線材或導電體卷繞為1列多層的線圈構成。

7.根據權利要求4所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將列定義為對于基板的垂直方向、層定義為對于基板的平行方向時，所述多個虛設線圈中的至少1個由線材或導電體卷繞為1列多層的線圈構成。

8.根據權利要求3所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述勵磁線圈彎曲地形成為越接近半徑方向外側越靠近基板。

9.一種渦電流傳感器，其特征在于，該渦電流傳感器配置于形成有金屬膜或導電性膜的基板的附近，檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流，

該渦電流傳感器構成為，將卷繞了導線或導電體的尺寸不同的多個線圈相對于基板在垂直方向上下配置，

各個所述多個線圈分別檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流。

10.根據權利要求9所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述多個線圈，由線圈外徑小的線圈和線圈外徑大的線圈構成，或者將線圈的內徑與外徑的算術平均定義為線圈中心直徑的話，由線圈中心直徑小的線圈和線圈中心直徑大的線圈構成。

11.根據權利要求10所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將所述線圈外徑小的線圈和所述線圈外徑大的線圈分別多個串聯連接，被串聯連接的線圈外徑小的線圈和被串聯連接的線圈外徑大的線圈配置為任意一方夾著另一方。

12.根據權利要求10所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將所述線圈中心直徑小的線圈和所述線圈中心直徑大的線圈分別多個串聯連接，被串聯連接的線圈中心直徑小的線圈和被串聯連接的線圈中心直徑大的線圈配置為任意一方夾著另一方。

13.根據權利要求9所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述多個線圈構成分別檢測所述金屬膜或導電性膜上形成的渦電流的檢測線圈。

14.根據權利要求13所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述渦電流傳感器具有與交流信號源相連接、在所述金屬膜或導電性膜上形成渦電流的多個勵磁線圈，所述多個勵磁線圈相對于基板在垂直方向上下配置。

15.根據權利要求13所述的渦電流傳感器，其特征在于，

所述渦電流傳感器具有與所述多個檢測線圈分別串聯連接的多個虛設線圈，所述多個虛設線圈相對于基板在垂直方向上下配置。

16.根據權利要求13所述的渦電流傳感器，其特征在于，

將列定義為對于基板的垂直方向、層定義為對于基板的平行方向時，所述多個檢測線圈中的至少1個由線材或導電體卷繞為1列多層的線圈構成。