[發(fā)明專利]一種光刻設(shè)備垂向動(dòng)態(tài)曝光方法及裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310090953.7
• 申請日: 2013-03-21
• 公開（公告）號: CN104062853A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 施忞;章磊;夏志鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種光刻設(shè)備垂向動(dòng)態(tài)曝光方法，用于將掩模版圖形通過投影物鏡系統(tǒng)曝光成像在工件臺(tái)的硅片上，其特征在于：具體包括如下步驟：

（1）對準(zhǔn)工件臺(tái)，找到最佳焦面，并使最佳焦面位于硅片的光刻膠頂部；

（2）根據(jù)光刻膠厚度及曝光時(shí)間，計(jì)算工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)速度，所述運(yùn)動(dòng)速度為光刻膠厚度除以曝光時(shí)間；

（3）曝光時(shí)工件臺(tái)按照運(yùn)動(dòng)速度垂向勻速上升，整個(gè)曝光過程中工件臺(tái)移動(dòng)的距離等于光刻膠涂層的厚度，曝光完成時(shí)使工件臺(tái)的最佳焦面停留在光刻膠涂層的底部；

（4）曝光結(jié)束后，工件臺(tái)停止運(yùn)動(dòng)并開始后烘和顯影過程。

2.使用如權(quán)利要求1所述的垂向動(dòng)態(tài)曝光方法曝光的光刻曝光裝置，包括照明光源、掩模版、投影物鏡以及工件臺(tái)，其特征在于：還包括控制模塊。

3.如權(quán)利要求2所述的光刻曝光裝置，其特征在于：所述控制模塊計(jì)算工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)速度，并控制工件臺(tái)運(yùn)動(dòng)。