[發(fā)明專利]磁頭用滑塊的檢查方法以及磁頭的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310085419.7
• 申請(qǐng)日: 2013-03-18
• 公開（公告）號(hào): CN103325390A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小林紗由美;山田涉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): G11B5/127
• 分類號(hào): G11B5/127;G11B5/455
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 夏斌;陳萍

關(guān)聯(lián)申請(qǐng)的引用：本申請(qǐng)基于2012年3月23日提交的在先日本專利申請(qǐng)第2012-68463號(hào)的優(yōu)先權(quán)利益且要求該利益，通過(guò)引用而包含其全部?jī)?nèi)容。

技術(shù)領(lǐng)域

在此進(jìn)行說(shuō)明的多個(gè)實(shí)施方式整體上涉及磁頭(head)用滑塊(slider)的檢查方法及磁頭的制造方法。

背景技術(shù)

硬盤(Hard?disk?drive：HDD)包括磁頭和存儲(chǔ)介質(zhì)(media)。而且，在HDD的制造過(guò)程中，通過(guò)適當(dāng)?shù)亟M合磁頭的特性和存儲(chǔ)介質(zhì)的特性，來(lái)得到所希望的存儲(chǔ)容量。因此，磁頭根據(jù)在其制造過(guò)程中所實(shí)施的動(dòng)態(tài)特性試驗(yàn)的結(jié)果來(lái)分級(jí)(rank)。

例如，在磁頭的前端安裝有對(duì)存儲(chǔ)介質(zhì)進(jìn)行數(shù)據(jù)(data)的寫入、讀出的滑塊。而且，根據(jù)該滑塊的性能來(lái)決定磁頭的動(dòng)態(tài)特性。另一方面，通過(guò)使用了規(guī)定的基板的晶片加工(wafer?process)來(lái)制作滑塊。因此，在將基板上所形成的多個(gè)滑塊分割為各個(gè)芯片之前進(jìn)行分級(jí)是有效的，會(huì)帶來(lái)制造成本(cost)的降低。

但是，磁頭的動(dòng)態(tài)特性試驗(yàn)要在將滑塊安裝在臂(arm)上的狀態(tài)下實(shí)施。而且，其檢查需要巨大成本。所以，需要能夠?qū)⒒迳纤纬傻亩鄠€(gè)滑塊在其制造過(guò)程中進(jìn)行分類、并能夠減輕動(dòng)態(tài)特性試驗(yàn)的負(fù)荷的滑塊的檢查方法及磁頭的制造方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施方式提供能夠?qū)⒍鄠€(gè)滑塊在其制造過(guò)程中進(jìn)行分類、并能夠減輕動(dòng)態(tài)特性試驗(yàn)的負(fù)荷的滑塊的檢查方法及磁頭的制造方法。

實(shí)施方式的滑塊的檢查方法，是被研磨處理、且配置為m行n列(m、n為正整數(shù))的矩陣狀的多個(gè)磁頭用滑塊的檢查方法，該檢查方法具備：第一步驟，檢查配置有多個(gè)的磁頭用滑塊的滑塊S[i，j](1≤i≤m，1≤j≤n：i、j為正整數(shù))中的配置為一行的滑塊S[1，j]的特性；以及第二步驟，參照上述研磨處理的結(jié)果，根據(jù)上述特性將上述滑塊S[1，1]～S[1，n]分別分類到多個(gè)等級(jí)的某一個(gè)等級(jí)，并賦予與該等級(jí)建立了對(duì)應(yīng)的系數(shù)A(j)。并且，上述檢查方法具備如下的第三步驟：根據(jù)使用了對(duì)上述滑塊S[1，1]～S[1，n]賦予的A(1)～A(n)中的從第k列的A(k)到第k+t-1列的A(k+t-1)(1≤k+t-1≤n：k、t為正整數(shù))的運(yùn)算的結(jié)果，將滑塊S[1，s](k≤s≤k+t-1：s為正整數(shù))分類到多個(gè)組中的一個(gè)組。

根據(jù)上述的構(gòu)成，能夠使動(dòng)態(tài)特性試驗(yàn)的負(fù)荷減輕。

附圖說(shuō)明

圖1是表示實(shí)施方式的滑塊的檢查方法的流程圖(flow?chart)。

圖2A至圖2E是分別表示實(shí)施方式的磁頭的制造工序的模式圖。

圖3A及圖3B是表示實(shí)施方式的滑塊塊(slider?block)的模式圖。

圖4是表示滑塊的特性分布的一例的曲線圖。

圖5A至圖5C是表示滑塊塊的特性分布的一例的模式圖。

圖6A及圖6B是分別表示實(shí)施方式的滑塊的檢查工序的模式圖。

圖7A及圖7B是分別表示圖6A及圖6B之后的檢查工序的模式圖。

圖8A至圖8C是分別表示圖7A及圖7B之后的檢查工序的模式圖。

圖9A至圖9C是分別表示圖8A至圖8C之后的檢查工序的模式圖。

圖10A及圖10B是分別表示圖9A至圖9C之后的檢查工序的模式圖。

圖11A及圖11B是表示零數(shù)滑塊的第一處理方法的模式圖。

圖12A至圖12D是表示零數(shù)滑塊的第二處理方法的模式圖。

圖13A至圖13D是表示零數(shù)滑塊的第三處理方法的模式圖。

圖14A及圖14B是表示零數(shù)滑塊的第四處理方法的模式圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對(duì)實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。在附圖中，相同的符號(hào)表示相同或類似部分。

圖1是表示上述實(shí)施方式的滑塊的檢查方法的框圖。在本實(shí)施方式的檢查方法中，對(duì)配置成m行n列的矩陣(matrix)狀的磁頭用滑塊進(jìn)行檢查。

首先，檢查多個(gè)上述滑塊S[i，j](1≤i≤m，1≤j≤n：i、j為正整數(shù))中的配置在第一行的滑塊S[1，j]的特性(S01)。該試驗(yàn)為，將滑塊S[1，j]安裝在臂上，例如測(cè)定寫入寬度(Magnetic?Write?Width：MWW)等動(dòng)態(tài)特性。此處，S[1，j]意味著配置在第一行的滑塊S[1，1]～S[1，n]中的第j列的滑塊。